1. 建模任务 '4,?YcZ?S 1.1
模拟条件
MN: {,#d0 模拟区域:0~10
P|NGAd 边界条件:Periodic
Df"PNUwA" 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
8)>>EN8 R 单位长度:0.5
1^_W[+<S/
0fc;H}B* B:>:$LIL 1.2堆栈
结构 )xp3
ElH {-)^?Zb
@ 2. 建模过程 'a(y]QG 2.1设置模拟条件
FQek+[ox
F=\
REq .7.G}z1 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 jHEP1rNHE ~n -N =Ti!9_~ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
x(?Rm, $YJ 1P 3. 结果分析 + 149 o2 3.1 指向矢分布和透过率
F`KXG$ nw+t!C ;X}2S!7Ko 3.2所有畴的V-T曲线
j32*9 rDl/R^w" G
1{m" 1M 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
rL<N:@HL