1. 建模任务 c3!YA"5 1.1
模拟条件
tE]Y=x[Ux 模拟区域:0~10
6 \NBU,lY 边界条件:Periodic
6I-Qq?L[H 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
m:]60koz]o 单位长度:0.5
_KAg1Ww
HC>MCwx=r ?vg|;Q 1.2堆栈
结构 <>R\lPI2 [_1K1i"m 2. 建模过程 )|`w;F> 2.1设置模拟条件
R@lA5w
>{.|Ng4K vxl!`$Pi 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 N(Xg#m H57wzG{xG Xr]<v%,C 2.3创建掩膜并生成多畴结构
gmdA1$c ,`U'q|b 3. 结果分析 ANlzF&K 3.1 指向矢分布和透过率
j)Y68fKK UsnIx54D3
RFT`r 3.2所有畴的V-T曲线
?7\$zn)v# e<duDW$X sg8j}^VI 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
^-dhz88wV