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摘要 SC Qr/Q ?h$
=] 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 >EacXPt-O ?j'Nx_RoX K@RE-K6{ 概述 sxP1.= W >ocDh~@aP 55%j$f •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 x>C_O\ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ;?q>F3n •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 4~s{zob 3dl#:Si
\f!j9O9S XABB6J] 衍射级次的效率和偏振 L
`\>_ o0Z~9iF& .kl.awT •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 O
,9,=2j •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 VR'R7 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 t.s;dlx[@ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ],W/IDv •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 8:9/RL\"x
-ff@W m K6z)&< 光栅结构参数 ;YfKG8(0 u/ Gk>F #Wf9` •此处探讨的是矩形光栅结构。 3*v&6/K •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 E! s?amM4 •因此,选择以下光栅参数: ?=FRnpU? - 光栅周期:250 nm >V,i7v*? - 填充系数:0.5 `[(.Q - 光栅高度:200 nm M^6!{c=MIi - 材料n1:熔融石英 5McOSy - 材料n2:TiO2(来自目录) ;_nV*G.y#^ 9kO}054 [YTOrN s(?A=JJ 偏振状态分析 W3gBLotdg `Lr I^9Z R'z
-#*[ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 E*W|>2nx] •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 'CfM'f3uu •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 &F 3'tf? ( +x!wX( x
LJh^-FQ ;+Sc Vz 产生的极化状态 +\ZaVi z0F'zN3J
tsWzM9Yf aSEzh78 }rKKIF^f\S 其他例子 aj|gt DxvD 1u oScKL#Hu •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 GEGg
S&SM •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 +8zCol?j T!ik"YZ@i <cUaIb;(4 p+y2w{{ 光栅结构参数 _yu_Ev}R abczW[\ "b6ew2\ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Od?b(bE.] •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Eo@b)h •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 0Vwl\,7z9 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 VUbg{Rb)
[CAV"u)0 xU(yc}vw, 光栅#1 ){M)0,: 5n#@,V.O/
iqAME%m `U6bI`l g-O}e4 •仅考虑此光栅。 J.g4I|{ •假设侧壁表现出线性斜率。 =AVr<kP •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ,Srj38p •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 y7LT;`A ?]Wg{\NC6 Uoqt 假设光栅参数: o8h1 •光栅周期:250 nm a]%>7yr4 •光栅高度:660 nm E#^?M#C •填充系数:0.75(底部) ]R7zvcu& •侧壁角度:±6° n| [RXpAp3 •n1:1.46 =zXA0% •n2:2.08 &LM ^,xx} d2=Z=udd 光栅#1结果 )m4O7'2G bPhb d uHu ( •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 W%&'EJ)62 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Au[H!J •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 XL2iK) A uNS ]n} qR>"r"Fq ~L3]Wa. 光栅#2 15L0B5(3 $=rLs)
Smjg[ $Eh8s( q7-.-k<dQ •同样,只考虑此光栅。 ET:B" •假设光栅有一个矩形的形状。 mO~A}/je •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 25-5X3(>j= 假设光栅参数: LI/;`Y= •光栅周期:250 nm Ej7>ywlW •光栅高度:490 nm dLnu\bSF •填充因子:0.5 b :J$ •n1:1.46 &
~*qTojj •n2:2.08 Rd|xw%R\mb g#b uy 光栅#2结果 kIlK"= [ta3sEPjs S`v+rQjW •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 I,0Z* rw •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 tMQz'3,X •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 InCo[ 8SI cV+x.)a.
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