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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 K1 f1 T  
    -rDfDdT  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 e=Ox~2S  
    GSA+A7sZ  
    +17!v_4^  
    概述 3.Fko<D4jD  
    F|%PiC,,qO  
    {_7hX`p  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 0\mf1{$"!7  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 g *5_m(H  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 <IrhR,@M,L  
    4LSs WO<@  
    wgz]R  
    W ?x~"-*  
    衍射级次的效率和偏振
    ^-%'ItVO  
    T;u;r@R/  
    s}zR@ !`  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Y3@+aA  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 >~g-  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [8u9q.IZ  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 "rdpA[>L  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 = MByD&o`  
    2)EqqX[D  
    3MQHoxX  
    光栅结构参数 |s /)lA:9  
    /#9P0@Y  
    g0f4>m  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 gs<~)&x  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 yp~z-aRa  
    •因此,选择以下光栅参数: (N/u@M  
    - 光栅周期:250 nm r'noB<| e  
    - 填充系数:0.5 ru:"c^W:[  
    - 光栅高度:200 nm Q8m~L1//S  
    - 材料n1:熔融石英 O 0}uY:B  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) GwO`@-}E  
    >p&"X 2 @  
    Sr+hB>{  
    8kKL=  
    偏振状态分析 NG3?OAQTw  
    8{Wl   
    {?Slo5X|  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 "Lvk?k )hx  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 fAh|43Y*a  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Le83[E*i  
    jd]L}%ax  
    D)MFii1J~  
    I(UK9H{0$  
    产生的极化状态 ^a qQw u  
    N_G&nw  
    kNP-+o  
    'qVlq5.  
    ESviWCh0Fl  
    其他例子 Cuylozj$&  
    X$<pt,}%  
    oW OR7)?r  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 *BxU5)O  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 vdXi'<  
    +:Xg7H*  
    'oz$uvX  
    J"#6m&R_q  
    光栅结构参数 sudh=_+>  
    h~QQ-  
    e!=7VEB  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 SN|!FW.*:  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 6l,6k~Z9  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 h0-.9ym  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Wrbv<8}%c  
    / 1TK+E$  
    iwIn3R,  
    光栅#1 */~|IbZ`o  
    ?taC !{  
    '`tFZfT  
    NXLb'mH~  
    xqdkc^b  
    •仅考虑此光栅。 A46dtFD{  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 [-`s`g-  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ^?|4<Rm  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 *56j'FX  
    +%<kcc3  
    LQqba4$  
    假设光栅参数: qAp <OJ  
    •光栅周期:250 nm .`*;AT  
    •光栅高度:660 nm }A6z%|d  
    •填充系数:0.75(底部) 7E* 0;sA#  
    •侧壁角度:±6° },<Y \  
    •n1:1.46 {%6 '|<`[  
    •n2:2.08 S^q^=q0F  
    uJ|,-"~F  
    光栅#1结果 '"q+[zwv  
    ^69(V LK  
    Tb^1#O  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 pVl7] _=m  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 F)=<|,b1  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    8/B8yY-O  
    ;Ym6ey0t  
    m[l&&(+J,  
    +-x+c: IxA  
    光栅#2 UQI!/6F  
    /=V!lRs  
    <`q-#-V@  
    o7gZc/?n  
    "1dpv \  
    •同样,只考虑此光栅。 @<OsTF L  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 f&F9ImZ  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 H[R6 ?H@$F  
    假设光栅参数: aA%x9\Y  
    •光栅周期:250 nm l"&iSq!3=  
    •光栅高度:490 nm | Eu#mN  
    •填充因子:0.5 Oo!]{[}7  
    •n1:1.46 .|:(VG$MfI  
    •n2:2.08
    $/u.F;  
    V1i^#;  
    光栅#2结果 ?!tO'}?  
    ?t;,Nk`jx  
    YY>&R'3[  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [ P*L`F  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 >0:=<RW  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 Qm[ )[M  
    4X:mb}(  
    3"HEXJMc  
     
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