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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 :biM}L  
    x2(!r3a  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Rd7Xs  
    5RCZv\Wd&  
    }>Gnp c  
    概述 L8("1_  
    ~GZ!;An  
    yNMnByg3?  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ?9 hw]Q6r}  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 /^v?Q9=Y  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 qfE>N?/  
    Xo]QV.n  
    a "uO0LOb  
    O) NEt  
    衍射级次的效率和偏振
    P[6@1  
    !4cO]wh5  
     W|XTa  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ZWH?=Bk:  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ~= qJSb  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 EkS7j>:  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 9N5ptdP.d  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 $Ay j4|_-  
    Ej\EuX  
    1~/?W^ir  
    光栅结构参数 ,b!!h]t  
    J`}5bnFP  
    `vs= CYs  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 ~Vq<nkWS  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 #n&/yYl9(l  
    •因此,选择以下光栅参数: (GB2("p`  
    - 光栅周期:250 nm )2t!= ua  
    - 填充系数:0.5 Qwl=/<p1  
    - 光栅高度:200 nm Ba==Ri8$  
    - 材料n1:熔融石英 2(~Y ^_  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) " '/:Tp)  
    JQ|qg\[  
    +mP&B<=H)  
    1d)wE4c=Z  
    偏振状态分析 NMq#D$T  
    C%P)_)- -V  
    d3Dw[4  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 o|#Mq"od  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 |Y#KMi ~  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 j/"{tMqQp  
    b=[gK|fu  
    #>~<rcE(  
    R'bmE:nL  
    产生的极化状态 bH+x `]{A  
    =*EIe z*.x  
    jM`)N d  
    A$*#n8 ,  
    <WXO].^  
    其他例子 h_Ky2IB$  
    0].x8{~o  
    p0Cp\.  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 l(X8 cHAi  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 .Cv0Ze  
    S |SN3)  
    |GPR3%9  
    ShXk\"  
    光栅结构参数 %jaB>4.A:  
    B&^WRM;7t  
    cBICG",TA  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 C9l5zb~D  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 gp07I{0~m  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 R? aE:\A  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 6u-@_/O5R3  
    /*g9drwaa  
    |Z%I3-z_DS  
    光栅#1 }$DLa#\-  
    Q\(VQ1c  
    (!F Uu  
    X r7pFw  
    Q y(Gy'q~  
    •仅考虑此光栅。 v(ABZNIn  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 R#j -Z#/"  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 a*4"j2j v  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ,(aOTFQS  
    t;BvKH77  
    q^{Z"ifL  
    假设光栅参数: ?f1PQ  
    •光栅周期:250 nm |ocIp/ $  
    •光栅高度:660 nm +<p?i]3CHe  
    •填充系数:0.75(底部) HN'r ZAZ(  
    •侧壁角度:±6° -rE_pV;  
    •n1:1.46 -[-LR }u  
    •n2:2.08 B<.XowT'  
    ]8,:E ]`O  
    光栅#1结果 !]bXHT&!R  
    C+ {du^c$  
    jO'+r'2B9  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 r()%s3$q  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 g8+w?Zn}  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    g@WGd(o0)  
    tCnx:1  
    HVb9YU+  
    S<n3wR"^  
    光栅#2 ?VM#Nf\  
    RG(m:N  
    ucm 3'j  
    tPO\e]  
    e@k`C{{C]o  
    •同样,只考虑此光栅。 QusEWq)}<  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 Qxds]5WB/  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 $YDZtS&h  
    假设光栅参数: /EY ^ui  
    •光栅周期:250 nm Y.$InQ gL  
    •光栅高度:490 nm F?j;3@z[A  
    •填充因子:0.5 Mwdh]I,#  
    •n1:1.46 c"ukV_6~J  
    •n2:2.08
    >:l; W4j  
    j!r 4p,  
    光栅#2结果 OCy\aCp  
    b`Wn98s  
    ]a% *$TF  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 U_a)g X  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 \jn[kQ+pJ  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 !Ju?REH   
    4-q7o]%5<  
    4XL*e+UfJ  
     
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