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摘要 7;0$UYDU* w}2 ;f= 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Qb "\j G-FeDP MP"Pqt 概述 tx0`#x +<qmVW^X D}4*Il? •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 {|dU|h •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 7bcl^~lY •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 4rXjso| q u>5 rg-
x@^Kd*fo fd Vye|% 衍射级次的效率和偏振 %K@s0uQ 79}voDFd E1'|
;}/ •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 7,vvL8\NHu •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Wk3R6
V •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 2@!Ou $W •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 !{On_>`, •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 @|A
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C8^=7HEB *c"tW8uR 光栅结构参数 ]*fiLYe9 #s"|8# Y"eR&d •此处探讨的是矩形光栅结构。 47]?7GU, •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 ~Ey)9phZK •因此,选择以下光栅参数: gZ{q85C.> - 光栅周期:250 nm a+wc"RQ
| - 填充系数:0.5 fK-tvP0}* - 光栅高度:200 nm LojEJ - 材料n1:熔融石英 bBwMx{iNNz - 材料n2:TiO2(来自目录) Z?XgY\(a(Q v-^7oai Z]Zs"$q@ z>n<+tso 偏振状态分析 i,k.#Vx[m cSMiNR I,rs&m?/m •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Glz yFj •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ^Ob#B!= •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 a04I.5! 8Xo`S<8VS
!%v=9muay 8[2.HM$Y 产生的极化状态 ]J`yh$a drv"I[}{A
zxo0:dyw7 DM*GvBdR kTCWyc 其他例子 C3m](%? kaKV{;UM P:`tL)W_ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 G/cE2nD •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ^;KL` C}})dL;( CBj&8#8Z 1m$< %t.> 光栅结构参数 $s[DT!8N Muhq,>!U SfHs,y6 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 \I3={ii0 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7mUpn:U •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ;t^8lC?>V •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。
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vocXk_ yP&SA+ 光栅#1 jsXj9:X I 4 nIs+
$}9.4`F> wK0= I\WN9 KINKq`Sx •仅考虑此光栅。 WJB/X"J •假设侧壁表现出线性斜率。 zVSbEcr,C~ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ."8bW^: •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ig] hY/uT *58`}] j|WuOZm\0 假设光栅参数: M*& tVG •光栅周期:250 nm =*ZQGM 3w •光栅高度:660 nm c5 jd
q[0 •填充系数:0.75(底部) LTSoo.dE •侧壁角度:±6°
]+ \]2`? •n1:1.46 .:<-E% •n2:2.08 <Z8I#IPl @R!f(\ 光栅#1结果 9`3%o9V9Y Cfz020u`g 319 &: •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 09_L^'` •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 < |