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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 1rm\u%  
    -5<[oBL;  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 M=^d  
    e(0OZ_w  
    _Si=Jp][  
    概述 o$No@~%v  
    `8!9Fp  
    ,s[%,ep`  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 :ppaq  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ! ?g+'OM  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 wMW<lT=;  
    =^4Z]d  
    G}nJ3  
    b>uD-CSA  
    衍射级次的效率和偏振
    5CY%h  
    ok:uTeJI  
    4IeCb?  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 E8PDIjp  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 xo[o^go  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ?:"ABkL|+Y  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 mLhM_=  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 K[z)ts-  
    PgkU~68`  
    j"qND=15  
    光栅结构参数 P[3i!"O>  
     !VGG2N8  
    /WN YS  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 =-U0r$sK+F  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 gb_Y]U  
    •因此,选择以下光栅参数: Uy?jVPL  
    - 光栅周期:250 nm nR_Z rm  
    - 填充系数:0.5 Q-<]'E#\(  
    - 光栅高度:200 nm |v!N1+v0  
    - 材料n1:熔融石英 m}"Hm(,6  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) p@tg pFt  
    h(|T.  
    ?N Mk|+  
    p<fCGU  
    偏振状态分析 w!f2~j~  
    2"ax*MQH<^  
    {-Y;!  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 cH5i420;aO  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 I6.rN\%b  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 N>I6f  
    QH'*MY  
    $TIeeTB  
    &L8RLSfX  
    产生的极化状态 .6wPpLG?{  
     YSD G!  
    `5Y*) q  
    z!}E2j_9P  
    dFz"wvu` o  
    其他例子 z CLaHx!  
    5JzvT JMx  
    6`e{l+c=F  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 8V:;HY#  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 F-m%d@P&X  
    d/d)MoaJ*t  
    P $`1}  
    Q|_F P:  
    光栅结构参数 {$frR "K  
    2-4N)q  
    !Tnjha*  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 `J.,dqGb  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。  [Sm<X  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Tz,-~mc  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 U)(R4Y6 v  
    zx#Gm=H4  
    /v!yI$xc  
    光栅#1 ](r}`u%}y  
    ~5HkDtI)  
    JQQyl:=  
    6"-$WUlg  
    2 }xePX9?  
    •仅考虑此光栅。 ^Om}9rXw1  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 Zl>SeTjB-  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 K6v~!iiK$  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ^>|ZN2  
    L.;b( bFe  
    Myc-lCE  
    假设光栅参数: h#0n2o#  
    •光栅周期:250 nm SAm%$v z%M  
    •光栅高度:660 nm opa/+V3E4  
    •填充系数:0.75(底部) %1#\LRA(  
    •侧壁角度:±6° UQ0!tFx  
    •n1:1.46 *V&M5  
    •n2:2.08 H oQb.Z  
    ";/]rwHa)  
    光栅#1结果 Ct=bZW"j/  
    VzG|Xtco [  
    lelmX  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 kQ+y9@=/g  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 dk&F?B{6T  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    .tRm1&Qi  
    m H:Un{,  
    *BKD5EwS  
    HI5NWdfRl  
    光栅#2 MHwfJ{"zo  
    <#0i*PM_  
    J^8j|%h%e  
    7C|AiSH  
    0AM_D >fH  
    •同样,只考虑此光栅。 hb3n- rO  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 YnpN -Y%g  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 S}C[  
    假设光栅参数: 1Ek3^TOv7  
    •光栅周期:250 nm ed'[_T}T3t  
    •光栅高度:490 nm czRBuo+k+  
    •填充因子:0.5 p[4 +`8  
    •n1:1.46 ~(GvjB/C8  
    •n2:2.08
    :hICe+2ca  
    >Tf}aI+  
    光栅#2结果 qGX@mo({  
    a?gF;AYk  
    &g?GF\Y  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 uzp\V 39  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 hWly8B[I  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 i9 aR#  
    RLf-Rdx/  
    (aYu[ML  
     
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