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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 67d0JQTu  
    *F=w MWa  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 1<lLE1fk  
    X _XqT  
    KnlVZn[3t  
    概述 U|,VH-#  
    )5B90[M|t  
    B;^7Yu0,  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 #[IQmU23  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 i2EB.Zlv  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 qV5ME #TJ  
    dq[CT  
    P\SE_*&  
    `6UW?1_Z5  
    衍射级次的效率和偏振
    aVd{XVE  
    2OEO b,`  
    q W) ,)i  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 gg5`\}  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 X|X6^}  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 lepgmQ|oY  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 %A?Ym33  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ;[&g`%-H<  
    jh9^5"vQ  
    RoP z?,u  
    光栅结构参数 74QWGw`,  
    Ip|7JL0Z  
    (eHvp  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 4u A ;--j  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 6M F%$K3  
    •因此,选择以下光栅参数: eo"6 \3z  
    - 光栅周期:250 nm 5WY..60K,  
    - 填充系数:0.5 SI U"cO4  
    - 光栅高度:200 nm ^KmyB6Yg  
    - 材料n1:熔融石英 #}l }1^$  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) SxNs  
    taw #r  
    WC0@g5;1[  
    Bx;bc  
    偏振状态分析 t/pHdxX*C7  
    8&B{bS  
    HX?5O$<<N  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 H"6:!;9,  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ewD61Y8-  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 + ,0RrD )  
    '3aDvV0  
    uG~%/7Qt{  
    IYb@@Jzo  
    产生的极化状态 XV]`?  
    i e%ZX  
    - TSn_XE  
    %mg |kb6n  
    5,k&^CK}  
    其他例子 b2 duC  
    9-I;'  
    3@_je)s  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 pO4}6\1\  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 {C[<7r uF  
    JmtU>2z\  
    }r9f}yX9Q  
    JEGcZeq)  
    光栅结构参数 AS'a'x>8>,  
    ?&j[Rj0pH  
    +3!um  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 wqK>=Ri_  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 r. =_=V/t  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Cir==7A0  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 8S &`  
    mN!>BqvN  
    <$K%u?  
    光栅#1 1B}6 zJ  
    &S]\)&Yt  
    A !x" *  
    eOE7A'X   
    A!x_R {,yH  
    •仅考虑此光栅。 %DbL|;z1  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 >x eKO 2o  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 L Lm{:T7  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 |JtdCP{  
    8yF15['  
    b Bb$0HOF  
    假设光栅参数: 25NZIal<  
    •光栅周期:250 nm dyC: Mko=  
    •光栅高度:660 nm l%oie1g l  
    •填充系数:0.75(底部) kzMCI)>"  
    •侧壁角度:±6° Z;P[)q  
    •n1:1.46 7AX<>^  
    •n2:2.08 -yy&q9  
    ?sfA/9"  
    光栅#1结果 Eo!1 WRruF  
    TwqyQ49  
    4w}\2&=  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 .R#p<"$I  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ~ b!mKyrZ  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    p3M)gH=N  
    ={o>g '  
    hCD0Zel  
    ;$wS<zp6  
    光栅#2 \f}S Hh  
    &jT>)MXPu  
    R#"kh/M  
    A|,\}9)4X[  
    ,2qJXMg"=$  
    •同样,只考虑此光栅。 ;O}%_ef@  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 ?Lbw o<E  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 b'pbf  
    假设光栅参数: :_~UO^*h  
    •光栅周期:250 nm Ou"QUn|  
    •光栅高度:490 nm eu@-v"=w  
    •填充因子:0.5 %M2.h;9]*\  
    •n1:1.46 mnzamp  
    •n2:2.08
    Cg |_ ) _w  
    W/<]mm~95  
    光栅#2结果  Jx9S@L`  
    Og4 X3QG  
    KdHR.;*  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 7hZCh,O  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ~}q"M[{  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 dQVV0)z  
    cKEf- &~  
    Qr Dzf e[  
     
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