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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 l1RlYl5  
    wAz,vq=x  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 az bUc4M  
    ^[TOZXL`:  
    z7q%,yw3N  
    概述 RKk"  
    B;c=eMw  
    jt%WPkY:  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 Sip_~]hM  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 e7|d=W  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 Ar5JP_M`E  
    }AAbhr9d}  
    )"~=7)~<^  
    4K #^dJnC  
    衍射级次的效率和偏振
    Y[,U_GX/R  
    8;.` {'r  
    !F,s"  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 P^;WB*V  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 k>-'AWH^v  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 UP*yeT,P,  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 HnK/A0jM  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 cJV!> 0ua  
    d!!3"{'  
    ,s8&#1rJ-  
    光栅结构参数 .lG +a!)  
    d-i&k(M  
    1Kc{#+a^  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 4sQ~&@[Q+  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 i*b4uHna  
    •因此,选择以下光栅参数: +}Auk|>Dc  
    - 光栅周期:250 nm y|LXDq4Wj  
    - 填充系数:0.5 ?e2Y`0  
    - 光栅高度:200 nm KK .cDAR  
    - 材料n1:熔融石英 C }bPv +t  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) n('VQ0b  
    a6 * Y%?  
    5I_hh?N4Z  
    fl!1AKSn@N  
    偏振状态分析 roL]v\tr  
    Z%A<#%    
    ua!D-0  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 @US '{hO1p  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 tUn&z?7bF  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 v@]6<e$  
    uk1v7# p  
    ^$6bs64FSm  
    w7Pe  
    产生的极化状态 #C'o'%!(  
    ^>t-v  
    v3 !byN^  
    }$w4SpR  
     S/)  
    其他例子 U8U/?zW/&  
    uk`d,xF   
    VQ/ <09e  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 WJBW:2=;  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 b^@`uDb6  
    1h& )I%`?  
    GF9ZL  
    av7q>NEZ!1  
    光栅结构参数 l6yB_ M  
    ?%_]rr9  
    38OIFT  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 *yL|}  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 t Qp* '  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 /0X0#+kn  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 44g`=o@  
    XtnIK  
    aEV|>K=6Y'  
    光栅#1 vK[v eFH  
    Ma n^\gkCi  
    qT&S  
    -zkW\O[  
    G}Q}H*  
    •仅考虑此光栅。 v GulM<YY  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 \5j22L9S  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 oC ^z_AtZ  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 7r:nMPX  
    QYFN:XZ  
    +5N^TnBtBL  
    假设光栅参数: S" I#>^  
    •光栅周期:250 nm ])3lH%4-  
    •光栅高度:660 nm 'Y,+D`&i)  
    •填充系数:0.75(底部) tr#)iZ\  
    •侧壁角度:±6° 9RbGa Y&  
    •n1:1.46 rPrEEWS0)  
    •n2:2.08 i2`.#YJ&v  
    ;+aDjO2(  
    光栅#1结果 Y9\]3Kno  
    W]C_oh  
    A`+(VzZgJ  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 <S:,`v&Z  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 D0,oml  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    Cf WK6>  
    #! K~_DL  
    &kmd<  
    61t-  
    光栅#2 * wQZ '  
    =1uj1.h  
    >G w%r1)  
    *NX*/(Q  
    )%nt61P\W  
    •同样,只考虑此光栅。 C {H'  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 4Tbi%vF{  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 s\n,Z?m  
    假设光栅参数: T3B |r<>I  
    •光栅周期:250 nm z}Mb4{d1  
    •光栅高度:490 nm V2<k0@y  
    •填充因子:0.5 ta+"lM7A}$  
    •n1:1.46 #o}{cXX#  
    •n2:2.08
    PN)TX~}  
    cfO^CC  
    光栅#2结果 UJyiRP:#]>  
    A~ %g"  
    3n=O8Fp  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 JsoWaD  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ` Q!FMv6Y^  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 }f0^9(  
    -* -zU#2|  
    BGk<NEzH  
     
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