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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 IdP"]Sv{<  
    /)Ga<  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 UBj"m<  
    t|/{oAj  
    X,+M?  
    概述 9Tju+KcK  
    E@uxEF  
    H Pvs~`>V  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 'fIBJ3s[o  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 g!<=NVhYt  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 El9D1],  
    2D`_!OG=  
    #`kLU:  
    =Fu~ 0Wc  
    衍射级次的效率和偏振
    o3=2`BvJ  
    c-?2>%;(V  
    eaNMcC1  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 f9ziSD#  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 g#??Mz   
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 CAs8=N#H%  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 xna4W|-  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 g`NJ `  
    /b ]Yya#  
    qj$6/V|D  
    光栅结构参数 p`oSI}ZwB  
    @d/Wa=K  
    Qj:`[#3?2  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。  ,m"0Bu2  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 c)5d-3"  
    •因此,选择以下光栅参数: oZ CvEVUk  
    - 光栅周期:250 nm &O&;v|!9  
    - 填充系数:0.5 G\\0N^v  
    - 光栅高度:200 nm =r?#,'a  
    - 材料n1:熔融石英 o?T01t=  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ,p3moD 3  
    VH>?%aL  
    IN{ 1itE  
    q8Z,XfF^S  
    偏振状态分析 \R}`S`fIw`  
    62YT)/i3  
    1G6 %?Iph  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 X{-@3tG<r  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 I7[F,xci  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 $>Mqo  
    [UW%(N  
    Pl9Ky(Q`V  
    FxK2 1  
    产生的极化状态 I"_``*/1  
    +6i~Rx>  
    AhNy+p{  
    ^ y1P~4w?  
    0P%,1M3d  
    其他例子 |1rKGDc  
    8Ev,9  
    8`$lsD  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 0r|mg::'  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 "&Y5Nh  
    2)W~7GED  
    <* 4'H  
     n}f*>Mn  
    光栅结构参数 p%?VW  
    }}cS-p  
    uFXu9f+  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 (mvzGXNz4  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ~?BN4ptc  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 F~C9,`#Wf@  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Mu~DB:Y9e  
    W/?\8AE  
    YtWO=+rX  
    光栅#1 {,Py%.vvR  
    i#RT4}l"a  
    z4UJo!{S  
    Kx@Papn|6  
    HAHLF+k  
    •仅考虑此光栅。 E7c!KJ2  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 Z~WUILx,  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 a-9Y &#U  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 .w@o%AO_  
    %^){)#6w  
    HpQuro'Qh  
    假设光栅参数: KK|AXoBf  
    •光栅周期:250 nm 13lJq:bM  
    •光栅高度:660 nm :v(fgS2\  
    •填充系数:0.75(底部) *w/})Y3^  
    •侧壁角度:±6° _rmTX.'w  
    •n1:1.46 P%nN#Qm  
    •n2:2.08 yH:gFEJ:x  
    `1Cg)\&[e0  
    光栅#1结果 jH4'jB  
    }5I+VY7a  
    iFi6,V*PRt  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 %~$P.Zh  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 %`F &,!d  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    o;#9$j7QP!  
    B>!OW2q0D  
    foi@z9  
    #K[UqJ+x  
    光栅#2 q!sazVaDp  
    6')pM&`t  
    FK2* O  
    |hlc#t ?  
    (8$; 4q[!  
    •同样,只考虑此光栅。 7H~J?_  
    •假设光栅有一个矩形的形状。  Q9!T@  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 9|}u"jJB%E  
    假设光栅参数: FU~xKNr  
    •光栅周期:250 nm $^ wqoW%t  
    •光栅高度:490 nm @+,J^[ y  
    •填充因子:0.5 K:osfd  
    •n1:1.46 Xc!0'P0T  
    •n2:2.08
    aJmSagr69C  
    f=f8) +5  
    光栅#2结果 !i`HjV0wS  
    ]3%( '8/  
    VPAi[<FzOG  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 $}*bZ~  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ;B,6v P#  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 Vh1R!>XY  
    #KOr-Yg|U  
    C(Bh<c0@  
     
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