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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 Iu`eQG  
    Qag@#!&n  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ?r C^@)  
    =;Gy"F1 dp  
    Z[:fqvXQ  
    概述 C'3/B)u}l  
    xb$eFiQ  
    J/Ki]T9  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ma.yI};$  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 -~T?xs0_  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 R4=n">>Q  
    vQCRs!A  
    "QA <5P  
    )P>Cxzs  
    衍射级次的效率和偏振
    k6-.XW  
    eKV^ia  
    44_7gOZ  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Q- 78B'!=  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 r J'm>&Ps  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 hp?hb-4l  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ]5b%r;_  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 TGx:#x*k  
    A`2l;MW  
    RMU]GCa  
    光栅结构参数 s>Xx:h6m  
    RGy4p)z*+  
    J8w#J  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Z'iXuI49  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 .r!:` 6  
    •因此,选择以下光栅参数: @+1-_Q`s/R  
    - 光栅周期:250 nm !X721lNP  
    - 填充系数:0.5 f6n'g:&.W  
    - 光栅高度:200 nm \9*wo9cV  
    - 材料n1:熔融石英 7@"J&><w!  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) gd3~R+Kd  
    ((L=1]w  
    xv;'27mUt  
    yZFm<_9>  
    偏振状态分析 )+T\LU  
    R /J@XP  
    tEP~`$9  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 h;105$E1  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 V~p/P  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 3n-~+2l  
    :X7"fX  
    !ckmNE0  
    Ig*68M<  
    产生的极化状态 7,U^v}$   
    V;$ME4B\{  
    f,{O%*PUA  
    {w*5uI%%e  
    `?)ivy>\:  
    其他例子 $OMTk  
    Lk{ES$  
    b,U"N-6  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 D9 `J||]E  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 A?I/[zkc  
    g/Q hI  
    (izGF;N+  
    b z3 &  
    光栅结构参数 O!#yP Sq?  
    63R?=u@  
    y7J2: /@[x  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 =8BMCedH|  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。  ;ew j  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 B;f\H,/59  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 CD|)TXy  
    ge*(w{|x  
    *`D(drnT{  
    光栅#1 7 ,Tg>,%Q  
    p^1s9CM%  
    dd4g?):  
    J+oK:tzt8  
    rXR=fj= 2  
    •仅考虑此光栅。 IK~'ke  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 2S'{$m)  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 := OdjfhY  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ~Y=v@] 2/  
    HPM ggRs  
    ,CACQhrng  
    假设光栅参数: D*!p8J8Ku  
    •光栅周期:250 nm M1(+_W`  
    •光栅高度:660 nm 3q7Z?1'o  
    •填充系数:0.75(底部) .Y!] {c  
    •侧壁角度:±6° 78'HE(*  
    •n1:1.46 VKUoVOFvPR  
    •n2:2.08 i U3GUsPy  
    ""-#b^DQ  
    光栅#1结果 J'99  
    o/ Z  
    Ww8<f$  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 R%7* )3$&r  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 D vG9(Eh  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    l)@Zuh  
    H(}Jt!/:  
    r3.A!*!  
    1eiV[z$?  
    光栅#2 "`Y.N$M`k  
    5LJUD>f9 Z  
    =3KK/[2M  
    {J_1.uN=  
    X}XTEk3[  
    •同样,只考虑此光栅。 +n#(QOz  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 =b\k$WQ_(  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ]`[r=cG  
    假设光栅参数: _ ," -25a  
    •光栅周期:250 nm (;1rM}B;1  
    •光栅高度:490 nm Dw\)!,,i7U  
    •填充因子:0.5 ?9jl8r>  
    •n1:1.46 -Ucj|9+(a  
    •n2:2.08
    'FVh/};Y.D  
    5v1f?btc  
    光栅#2结果 p72:oX\Q I  
    /{|<3CEe  
    Ps<6kQ(  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ;=.i+  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 3I|&}+Z6  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 tCkKJ)m  
    if|j)h&  
    6Xu^ cbD  
     
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