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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 2s:$4]K D  
    _m|Tr*i8  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 DG"Z:^`*  
    Vy[ m%sEP  
    I<ta2<h  
    概述 \4|o5,+(@  
    p/!P kKJ  
    _ -/<bO  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 rfS kQT  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 x>=8~wIK  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 OAXF=V F#  
    E<XrXxS1O  
    /xcl0oe(  
    n:wZL&ZV0  
    衍射级次的效率和偏振
    /{d5$(Y"  
    W{v-(pW  
    1W +QcK4k  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 S 2SJFp  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 @d86l.=  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Fz4g:8qdA  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 |SF5'\d'  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 q!P{a^Fnc  
     rVo?I  
    U}Aoz|  
    光栅结构参数 mlD 1 o  
    o7W1sD1O  
    I2PFJXp_]n  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Zr.6J*&!  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 sjj*7i*  
    •因此,选择以下光栅参数: *N #{~  
    - 光栅周期:250 nm # U j~F  
    - 填充系数:0.5 evBr{oi@  
    - 光栅高度:200 nm AH#eoKu  
    - 材料n1:熔融石英 APA:K9jD  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ]TmxCTVL  
    h!L6NS_Q,  
    \.%GgTF  
    B:Xmc,|,  
    偏振状态分析 nmZJ%n  
    qOk=:1`3  
    7pY7iR_  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 4/tp-dBip  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Tn7(A^h'  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 KLn.vA.  
    xiW;Y{kZ  
    a!US:^}lu  
    `:I<Jp  
    产生的极化状态 ZRd,V~iz  
    n rpxZA  
    &m>sGCZ  
    oHbG-p  
    +w]KK6  
    其他例子 >$yqx1=jW  
    n(MVm-H  
    XPt<k&o1,  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 DJmT]Q]o)  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 `bdCom  
    Tl9;KE|  
    ^<}eONa  
    s@ ~Y!A  
    光栅结构参数 O*ql!9}E{  
    _K?{DnTb  
    &7YTz3aj  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 rIt#ps  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ^U`Bj*"2  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 u,R;=DNl  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 c9eLNVM  
    H^c8r^#  
    q)ns ui(  
    光栅#1 D# "ppa}  
    B7fV_-p:G  
    & bwhD.:=  
    Ae0jfTv  
    n8.W$&-ia  
    •仅考虑此光栅。 i@C1}o-/  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 J ^J$I!  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 g(i_di  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 =wEqI)Td  
    %`cP|k  
    csPziH$wl  
    假设光栅参数: J\BTrN7  
    •光栅周期:250 nm O{^ET:K@  
    •光栅高度:660 nm VoOh$&"M  
    •填充系数:0.75(底部) OUd&fUmH  
    •侧壁角度:±6° :q.g#:1s  
    •n1:1.46 Wy[Ua#Dd  
    •n2:2.08 R3;,EL{H&  
    ._uXK[c7P  
    光栅#1结果 JYt)4mOo  
    '9+JaB  
    5ir[}I^z  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 b=5"*=T{+  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 @MS}tZ5  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    fr\"MP  
    LovVJ^TD0i  
    g/o@,_  
    ZB)`*z>*  
    光栅#2 YTc X4cC  
    [f^:V:) {  
    xH\#:DLY  
    (V:z7  
    s\)0f_I  
    •同样,只考虑此光栅。 s+@+<QE  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 ScgaWJ  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 HinPO  
    假设光栅参数: 'S_OOzpC  
    •光栅周期:250 nm Z?Cl5o&l b  
    •光栅高度:490 nm b"lzR[X,e  
    •填充因子:0.5 VO (KQx  
    •n1:1.46 )(?,1>k`Z  
    •n2:2.08
    V__|NVoOm  
    Y ,Iv<Hg  
    光栅#2结果 m#\I&(l+  
    9vQI ~rz?  
    LFzL{rny!U  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Yq6e=?-  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。  b6`_;Z  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 r%craf  
    |6cz r  
    ;qA(!`h+  
     
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