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摘要 OwIy(ukTI v!h-h&p O7 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 *>$)#?t A y[L{!)2{ T|2%b*/ 概述 U*:'/. 9:w,@Phe LhRe?U\ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ^|;4/=bbs •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 .%Q Ea_\ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 %ys}Q!gR ",V5*1w
y+afUJT }z- 衍射级次的效率和偏振 K.1yncS^ c!^}!32j) =T4w: •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 NB+O; •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ;O|63 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ,6Q-k4_ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 n1(X%%2 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 E"&9FxS]^
wR$8drn]Rq _N';`wjDY 光栅结构参数 J4 #]8!A S5a<L_ + qqN •此处探讨的是矩形光栅结构。 wT yM9wz& •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 JW'acD •因此,选择以下光栅参数: a\_,_psK - 光栅周期:250 nm lFY8^#@ - 填充系数:0.5 r!,V_a4n - 光栅高度:200 nm 3*2pacHpE - 材料n1:熔融石英 U/o}{,$A - 材料n2:TiO2(来自目录) s2=X>,kz? nn%xN\~< Qo *]l_UO; !PIdw~YC 偏振状态分析 JhIK$Ti eJp-s" % y<d#sv(s •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 w/6@R 4)p •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 p,Hk"DSs% •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ~"Ki2'j)^] VW`=9T5%@
%([H*sLX xR`2+t&t 产生的极化状态 0|;=mYa4M #K w\r50
{?hjx+v[ cpnwx1q@ %WN2 xCSf 其他例子 wwn}enEz,x ]!:Y]VYN)\ We?:DM
[ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ZE`{J=, •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 X&Lt?e,& &[5az/Hj* a"aV&t w,9F riW 光栅结构参数 c
@fc7 mu sxX58% 5K{h)* *5 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 e*H$c?7NL •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 0{F.DDiNT •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 nVzo=+Yp •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 PM7/fv*,
UXHFti/A< 55p=veq \ 光栅#1 >`'9V|1 !d(V7`8
`f]O ]EQ/*ct T1=M6iJ •仅考虑此光栅。 ,qB081hPG •假设侧壁表现出线性斜率。 oVW?d]R •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 lV'83 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 2wQ
CQ" PK"
C+o;: hgGcUpJy? 假设光栅参数: %>TdTt •光栅周期:250 nm @jKB!z9{ •光栅高度:660 nm 2l?J9c}Wo •填充系数:0.75(底部) @4$E.q<0 •侧壁角度:±6° %R"Fx$tQ •n1:1.46 ez{&Y>n •n2:2.08 Lt_]3go X)m2{@v D 光栅#1结果 GWKefH BL67sva; d%bL_I) •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 x}d\%*B •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 RMK
U5A7 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 9"S3A EI fp0Va!T(V pG&.Ye]j hM}2++V 光栅#2 uk,f}Xc M &J*I
2lRZ/xaF%P :Kiu*&{ =%LS9e^7D •同样,只考虑此光栅。 ?3#X5WT •假设光栅有一个矩形的形状。 h%%'{^>~ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 k"J?-1L 假设光栅参数: AI2CfH#:C •光栅周期:250 nm 71_N9ub@z •光栅高度:490 nm 0W> ",2|z •填充因子:0.5 RS~oSoAE •n1:1.46 =#fqFL, •n2:2.08 P}gh-5x vs~*=d27Pf 光栅#2结果 lxZXz JkqZ wr`eBPu =E}/Z •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 *RPI$0 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 a'BBp6 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 c{~*\& -IE;5f#e
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