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摘要 E/3<8cV :$N{NChx 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 KWH:tFL. n*A"}i`ix ?pkGejcQ 概述 XW BTBL mZ#h p}\. O.$OLK;v •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 R;H>#caJ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 z;Dc#SZnO( •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 h]p$r`i7 {@
Z%6%'9
UUqA^yJ NJPp6RZ% 衍射级次的效率和偏振 >JT^[i8[ <Eh_ 5@`dKFB5 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 )X'ln •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 3(=QY) •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 pu
Z0_1uN •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 &6\f;T4 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 K'S\$
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. ;BW9SqlN 光栅结构参数 s+6tdBvzs ;6{{hc4 FUs57
V •此处探讨的是矩形光栅结构。 p%- m"u •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 0hCUr]cZ, •因此,选择以下光栅参数: tiTh7qYi9 - 光栅周期:250 nm ~A,(D- - 填充系数:0.5 Hzojv<c - 光栅高度:200 nm :?H1h8wbCt - 材料n1:熔融石英 a_k~z3wG - 材料n2:TiO2(来自目录) ?xb2jZ/0X V( 3rTDg j:xm>X' TZw['o 偏振状态分析 ##/ l n[ lcuqzX{7 •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。
ee#\XE=A •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 R/kfbV-b •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Jek3K& 2 D!$x+|
jP"yG# gutf[Ksu 产生的极化状态 0l~z0pvT 4|xQQv
XA-, (V#*}eGy %oiA'hz;* 其他例子 Lr<?eWdCwJ JVh/<A c}D>.x|] •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 [_zoJ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 js)I%Z !E_RD,_ iS}~e{TP/ ?oQAxb& 光栅结构参数 + wF5( B}npom\tC yrV]I(Xe •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 HOlMj!. •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 f4&k48Ds •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 UszR. Z •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 <O9.GHV1v
F/0x`l S<"`9r)av 光栅#1 8 qwOZ
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B>g7B l&6+ykQ f<P>IE •仅考虑此光栅。 ~A-VgBbU>_ •假设侧壁表现出线性斜率。 o3>D~9 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 lZ5TDS •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ,[)f-FmcU CB>O%m[1 7"$9js 2 假设光栅参数: xZp`Ke! •光栅周期:250 nm WkK.ON^ •光栅高度:660 nm e%.|PZ) •填充系数:0.75(底部) A.(xa+z? •侧壁角度:±6° i-31Cxb •n1:1.46 d> L*2 g •n2:2.08 2 [yfo8H `&qeSEs\ 光栅#1结果 h} <Ie < 5=9gH {^SHIL •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 #;Z+X) •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 r`!S*zK •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 4@* `V XyytO;XM- =@ "'aCU/ rklK=W z 光栅#2 !UW{xHu EPL"H:o5%<
4z^5|$?_ta r[y3@SE5 ~h6aTN •同样,只考虑此光栅。 !nyUAZ9 : •假设光栅有一个矩形的形状。 lv0}d •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 \A/??8cgXs 假设光栅参数: TrmU •光栅周期:250 nm o9L$B •光栅高度:490 nm
Xw{Qktn •填充因子:0.5 #J)83 •n1:1.46 7T-}oNaJA\ •n2:2.08 )Qx&m} :h60 光栅#2结果 Ncle8=8 LFV',1+ $Y31YA •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 \' ;zD-MX •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 \)mV2r!% •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 #Yr/GNN O^yDb
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