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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 N~Ax78TX  
    C'*1w  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 JI@~FD&  
    75I* &Wl  
    tJ2l_M^  
    %Xkynso~  
    建模任务 8t9sdqM/C  
    NM[w=  
    HgduH::\#  
    概观 ft:/-$&H  
    + +D(P=4hi  
    x/bO;9E%U4  
    光线追迹仿真 "R4~ 8r  
    YPGn8A  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 LvhF@%(9J  
    cg0L(oI~  
    •点击Go！ ag[yM  
    •获得3D光线追迹结果。 {K_YW  
    Zff-Hl  
     -wvJZ  
    ++Az~{W7  
    光线追迹仿真 6;[iX`LL  
    ?HZ+fS ,-  
    $?wX*  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 :m@(S6T m  
    •单击Go！ dRas9g  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     WoesE:NiR  
    v\$XhOK  
    oA_AnD?G+  
    AkT_ZU>  
    场追迹仿真 vA(3H/)-  
    l&;#`\s!V  
    RrKs!2sCT  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 7QQ1oPV  
    •单击Go！     > *vI:MG8  
    9QWS[E4  
    1UxRN7  
    R"=G?d)  
    场追迹结果（摄像机探测器） v<3i~a  
     ?Za1  b  
    .CwMxuW  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7}TjOWC  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。  yZdM4`  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。  1=W>zC  
    k@KX=mG<  
    CO 5?UgA  
     j Dy  
    场追迹结果（电磁场探测器） .NwHr6/s*  
    *8X: fq  
    FkKx~I:  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     nyTfTn  
    0o(/%31]  
     LD]XN'?"W  
     
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