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摘要 /1d<P! H NLyXBV[hV 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 O- #TZ "$| Zr  AOb]q c w2dcH4& 建模任务 A_R!uRD8- (RE2I  irKIy 概观 &eQJfc\a booRrTS  mrM4RoO 光线追迹仿真 19t{|w< Vn, >< g •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 s_[ VHPN =lp1Z>
•点击Go！ (dqCa[
•获得3D光线追迹结果。 IRW^ok.'b!
`VT>M@i/
 'wQv3 ; poT&-Ic[ 光线追迹仿真 W\ cjd d 2S ~R ! 7 K;!iX<d
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Ak@Dyi?p
•单击Go！ Kz?#C
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 A m"(+>W21 S,jZ3^  xZ .!d.rn wTc)S6%7 场追迹仿真 *[}^[J
x [ f/I2 }m- "8\_D
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 N ( Oyi
•单击Go！ ZDt?j `]i
[ ]|  )[Z!*a m & ,: h) 场追迹结果（摄像机探测器） F@YKFk+a
"i^
GmVn G`0V)S
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 mtA E
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 / F) H \*
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 j 5$GFi\kB
@N@F,~[RR2
 YHX Lv#8
i^msjA 场追迹结果（电磁场探测器） pzZk\-0R d+eZub94U S \ i@s_
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ~f\G68c 3uWkc3
 }H> ^o9
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