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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 p|/j4@-h  
    yag}fQ(XH  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 q *AQq=  
    F;!2(sPS  
    LsGiu9~S  
    b2^AP\: k  
    建模任务 }Y1>(U  
    E%TpJl'U  
    'QH1=$Su  
    概观 NO K/<_/  
    (|fm6$  
    Ld,5iBiO:  
    光线追迹仿真 }2r+%V&4  
    a!c[!  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 s& {Qdf  
    DrvtH+e  
    •点击Go！ YIp-Y}6  
    •获得3D光线追迹结果。 B)h>8 {  
    Pe~`16f  
     iG ,t_??  
    xaKst p  
    光线追迹仿真 6`"M  
    QI[}(O7#6  
    A?"h@-~2  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Q1&P@Io$  
    •单击Go！ & Rz, J]  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     =vh8T\  
    hvt@XZT  
    &yz&LNn'  
    q1hMmMi  
    场追迹仿真 pY^9l3y^  
    i(wgB\9i4  
    y9;#1:ic  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Y"e EkT\  
    •单击Go！     Y ZaP  
    6a>H|"P NE  
    L8vOBI7N  
    h:Ndzp{  
    场追迹结果（摄像机探测器） "!Rw)=7O  
     x@cN3O  
    e}cnX`B  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 H.J5i~s  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 22KI]$D#f  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )3z]f2  
    yNJAWM7  
    eE/%6g  
     jlKGXD)Q[  
    场追迹结果（电磁场探测器） NyI ;v =  
    ZAg;q#z j  
    L]2< &%N2  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     /k7wwZiY@  
    WY)^1Gb$ux  
     N^elVu4 K  
     
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