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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 %16Lo<DPm  
    @%fTdneH  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 {C&U q#V  
    ,KJHYm=Q  
    .1TuHC\mC  
    tC|?Kl7  
    建模任务 \dJhDR  
    /[dMw *SRz  
    6yy%_+k*  
    概观 :pM 8Q1:B  
    ^vMlRt;  
    /?r A|  
    光线追迹仿真 HL&HY)W1gf  
    ^2}HF/  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 H?O5 "4a  
    t$du|q(  
    •点击Go！ Uj;JN}k  
    •获得3D光线追迹结果。 O)`L( x  
    "LTw;& y  
     ;@=3 @v  
    |l8=z*v<  
    光线追迹仿真 IDn<5#  
    fD@d.8nXd  
    K@*+;6y@  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 8!|vp7/  
    •单击Go！ 7)QZ<fme  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     b 9rQQS  
    |;NfH|43;  
    2Snb+,o2  
    mH\zSk  
    场追迹仿真 @*|VWHR  
    9V1d`]tP  
     nBp6uNK[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 @=l6zd@  
    •单击Go！     3v\P6  
    5H.~pc2y  
    s8&q8r7%  
    N#Rb8&G)b  
    场追迹结果（摄像机探测器） !b_(|~7Lc  
     !*Is0``  
    #M|lBYdW}  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c45 s #6  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 B>c$AS\5y  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 5e. aTW;U  
    ]}lt^7\=  
    N$kxf  
     1s(T#jh  
    场追迹结果（电磁场探测器） ,2$<Pt;  
    'UhHcMh:  
    QNOdt2NN  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。      .x%w#  
    i*/i"W<  
     1v|-+p42  
     
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