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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 Ssu{Lj  
    s9A'{F  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ~MY (6P  
    F_~-o,\  
    'KGY;8<x]  
    &,Q{l$`X  
    建模任务 <LW|m7  
    4(4JQ(5  
    bIm$7a`T  
    概观 Xh]\q)  
    2LYd # !i  
    yj$S?B Ee  
    光线追迹仿真 .Qh8I+Q%  
    YeJ95\jf  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +&\TdvNI4  
    fC3IxlG  
    •点击Go！ IQ{Xj3;?y  
    •获得3D光线追迹结果。 i,")U)b  
    1TQ $(bI  
     W7A'5  
    (r[<g*+3  
    光线追迹仿真 >`NY[Mn  
    "tIf$z  
    -R'p^cMA  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 p 2~Q  
    •单击Go！ -e(2?Xq9  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     CHpDzG>]4  
    \ b9,>  
    f9- |! ]s  
    * Kzs(O  
    场追迹仿真 ga^<_;5<  
    0]oQ08  
    :=L[kzX  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 pjj 5  
    •单击Go！     J+*rjdI  
    =w A< F  
    o m_&|9B)  
    K[sM)_I  
    场追迹结果（摄像机探测器） cHsJQU*K6  
     ~POeFZ  
    oZCi_g 5i  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 JNp`@`0V  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 vWkKNB  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 T4!]^_t^  
    x>8f#B\Mr  
    Ok`U*j  
     hTG d Uw]  
    场追迹结果（电磁场探测器） |C&eH$?~=R  
    ^LU[{HZV  
    uBE,z>/,;  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     hYd8}BvA  
    : m5u=:t  
     1UM]$$:i  
     
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