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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 lm`*x=x  
    GQ(Y#HSq  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 @A[)\E1  
    J/]%zwDwS  
    r8:r}Qj2w[  
    Zkp~qx  
    建模任务 !W}sOK7#  
    Nl\`xl6y]  
    {B$CqsvJ  
    概观 hFV,FBsAO  
    TQR5V\{&%  
    'm<Lx _i  
    光线追迹仿真 1/$PxQ  
    :Xw|v2z%3  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 E%w^q9C  
    &}DfIP<  
    •点击Go！ n|5\Q  
    •获得3D光线追迹结果。 kpgvAKyx  
    UyGo0POW  
     s&7 3g0$$  
    !2t7s96  
    光线追迹仿真 )zL@h  
    '_v~+  
    R ]Ev=V'U  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 a>j}@8[J  
    •单击Go！ dIC\U  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ,dRaV</2  
    p]aEC+q  
    ).KA0-  
    ::Zo` vP  
    场追迹仿真 ;L-=z]IR,  
    N R c4*zQJ  
    }Uy QGRZ=  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 P<pv@ l9)  
    •单击Go！     k9k39`t  
    )n&hO_c/  
    \HGf!zZ  
    rXB;#ypO  
    场追迹结果（摄像机探测器） ' i+L  
     GxdAOiq;  
    JxIJxhA>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 u=:f%l  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e:O,$R#g  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ytttF5-  
    '| i?-(f)  
    NQ{(G8x9  
     )Do 0  
    场追迹结果（电磁场探测器） /A{ Zf'DI  
    `n&:\Ib  
    "2mPWRItO  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     {/QVs?d  
    REW[`MBQ  
     J&8KIOz14Z  
     
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