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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 )w%!{hn  
    P7/X|M z  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 r]36z X v  
    z2>lI9D4V  
    t\ewHZG"  
    v|2T%y_ u  
    建模任务 <Q?F?.^e  
    V3j= Kf  
    bA->{OPkT  
    概观 x-3\Ls[I  
    lnR{jtWP  
    sD wqH.L  
    光线追迹仿真 :9 ^* ^T  
    Y:a]00&)#Y  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 pz>>)c`  
    VW4r{&rS  
    •点击Go! HyWCMK6b  
    •获得3D光线追迹结果。 *;*r 8[U}q  
    y'*K|a TG  
    !C: $?oU  
     0lR5<^B  
    光线追迹仿真 ~qOa\#x_  
    [cp+i^f  
    L;I]OC^J  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 CeC6hGR5  
    •单击Go! }`~+]9 <   
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    @<&m|qtMsz  
    g}',(tPMZ  
    _5N]B|cO  
    uW36;3[f#1  
    场追迹仿真 n6a`;0f[R  
    W6/yn  
    3:i@II  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 9qG6Pb  
    •单击Go!
    )Z9>$V$j  
    s-T\r"d=j  
    dlTt _.  
    [HZv8HU|  
    场追迹结果(摄像机探测器) .0]<k,JZZ  
    k+pr \d~  
    ^.NU|NQi'  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~M4;  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ?<'}r7D   
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 "1 M[5\Ax  
    jtc]>]6i  
    j  e P  
    %d<"l~<5;  
    场追迹结果(电磁场探测器) v^ V itLC  
    j#q-^h3H  
    SNI)9k(T{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    q5)O%l!  
    5]Y?m'  
    W|63Ir67  
     
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