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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 c;-N RvVb  
    eY^zs0  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 *P]]7DR  
    J(maJuY  
    f}4A ,%:1  
    +Zr~mwM=x  
    建模任务 .f;@O qU  
    =3SJl1w1  
    a.JjbFL  
    概观 +/kOUz/]  
    ^;( dF<?'r  
    1q5S"=+W[  
    光线追迹仿真 NG:4Q.G1g  
    3PL0bejaT7  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 F^%\AA]8  
    Xo[cpcV  
    •点击Go！ .]zZwB  
    •获得3D光线追迹结果。 n+Conp/  
    "$K]+0ryG<  
     $FX$nY  
    a_{'I6a*,  
    光线追迹仿真 <gH-`3 J6  
    +opym!\  
    /38I (0  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 YPq:z"`-y4  
    •单击Go！ $3&XM  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ZU.E}Rn:  
    mvt-+K?U  
    0.nkh6 ?  
    On!+7is'  
    场追迹仿真 ,WnZ^R/n  
    fl9VokAT  
    p}/D{|xO  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 <&O*' <6C  
    •单击Go！     V6((5o#  
    \dE{[^.5  
    n <> ^cD  
    Fn4yx~0  
    场追迹结果（摄像机探测器） WJa7  
     B~qo^ppVU  
    C\ Yf]J  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 sMUpkU-  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 r)Zk-!1  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 /?XI,#j3kM  
    52Dgul  
    <ME>#,  
     f2SJ4"X  
    场追迹结果（电磁场探测器） kX}sDvP3  
    <n~.X<6V'  
    ~OxFgKn23&  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     S*J\YcqSC  
    8Exky^OT|  
     Ik5V?  
     
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