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摘要 )w%!{hn P7/X|M z 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 r]36zX v z2>lI9D4V t\ewHZG" v|2T%y_
u 建模任务 <Q?F?.^e V3j= Kf bA->{OPkT 概观 x-3\Ls[I lnR{jtWP sD wqH.L 光线追迹仿真 :9 ^*
^T Y:a]00&)#Y •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 pz>>)c` VW4r{&rS •点击Go! HyWCMK6b •获得3D光线追迹结果。 *;*r8[U}q y'*K|aTG
!C:$?oU 0lR5<^B 光线追迹仿真 ~qOa\#x_ [cp+i^f L;I]OC^J •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 CeC6hGR5 •单击Go! }`~+]9< •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 @<&m|qtMsz g}',(tPMZ _5N]B|cO uW36;3[f#1 场追迹仿真 n6a`;0f[R W6/yn 3:i@II •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 9qG6Pb •单击Go! )Z9>$V$j s-T\r"d=j dlTt_. [HZv8HU| 场追迹结果(摄像机探测器) .0]<k,JZZ k+pr \d ~ ^.NU|NQi' •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~M4; •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ?<'}r7D Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 "1M[5\Ax jtc]>]6i
j eP %d<"l~<5; 场追迹结果(电磁场探测器) v^ VitLC j#q-^h3H SNI)9k(T{ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 q5)O%l ! 5]Y?m'
W|63Ir67
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