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摘要 >Efv?8$E\ 3:!+B=woR 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 qbmy~\ZY 3nxJ`W5j &c0U\G|j 8LB+}N(8f 建模任务 {3'z}q kE=}. F+|zCEc 概观 wS#.Wzp.w GKSfr8US4 EG2NE,,r 光线追迹仿真 nJlrBf_Kj ]k5l]JB •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 : >4{m) <T{PuS1<o •点击Go! 3S ,D~L^ •获得3D光线追迹结果。 8v_HIx0xu {!@Pho) Q
pX+ `qxF\ V07e29w 光线追迹仿真 ._Wm%'uX \XD&0inv )k{zRq:d •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 I HgYgn •单击Go! Q
>] v?4 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 H0_hQ:K E$T)N U\ dr'# '/G.^Zl9 场追迹仿真 P'xq+Q weYP^>gH' G BV]7. •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 vE^Hk!^ •单击Go! IMpEp}7 |W<wPmW_{+ ^W{+?q' q;1]M[& 场追迹结果(摄像机探测器) qQv?J]l ayTEQS AtGk
_tpVZ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 @.6l^"L •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 B0T[[%~3M Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 [/.o>R#J( -Xb]=Yf-
89?$xm _m u|z B\zd 场追迹结果(电磁场探测器) >r6`bh
[4 Y<0
[_+( CXwDG_e •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ,dOd3y'y ZaBGkDX5
,IX:u1mO
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