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摘要 @P@j9yR n
9X:s?B/ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Je1'0h9d #o/ %{*A@jQsg aI'MVKwMk 建模任务 4u.Fy<+@4M o$%I{}9x v:7_ZD6kR
概观 oZCjci- FT$Z8 a\@k5? 光线追迹仿真 {dF_=`. &u}]3E'-k •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 {I:nza sJ
!<qb5 ! •点击Go! W8>< •获得3D光线追迹结果。 2iV/?.<Z& XJI
ff$K
5H!6#pqM *@(j'0hj 光线追迹仿真 k`u.:C& EK=PY
X<*-d6?gD` •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 &]_2tN=S$ •单击Go! _Q=h3(ZI •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 n=8DC& px>g L7rH=gZ&!] c*c 8S~6 场追迹仿真 5%K(tRc| (S)jV0 OB5t+_s •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 J7Y lmi •单击Go! ^2}p%j> 31)eDs >5c38D7k) 7LrWS83 场追迹结果(摄像机探测器) >= VCKN2'j lVra&5 WTX!)H6Zv •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 t8_i[Hw6D •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 kX8Ey Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 xwjiNJ Gj g* DBW,
\{K~x@` og)f?4 场追迹结果(电磁场探测器) t*dd/a $s,Az_bs t}x^*I$* •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 "IuPg=|# -?Kd[Ma
&++tp5
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