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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 >Efv?8$E\  
    3:!+B=woR  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 qbmy~\ZY  
    3nxJ`W5j  
    &c0U\G|j  
    8LB+}N(8f  
    建模任务 {3'z}q  
    kE=}.  
    F+|zCEc  
    概观 wS#.W zp.w  
    GKSfr8US4  
    EG2NE,,r  
    光线追迹仿真 nJlrBf_Kj  
    ]k5l]JB  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 : >4{m)  
    <T{PuS1<o  
    •点击Go！ 3S ,D~L^  
    •获得3D光线追迹结果。 8v_HIx0xu  
    {!@Pho)Q  
     pX+`qxF\  
    V07e29w  
    光线追迹仿真 ._Wm%'uX  
    \XD&0inv  
    )k{zRq:d  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 I HgYgn  
    •单击Go！ Q >] v?4  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     H0_hQ:K   
    E$T)N U\  
    dr'#  
    '/G.^Zl9  
    场追迹仿真 P'xq+Q  
    weYP^>gH'  
    G BV]7.  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 vE^Hk!^  
    •单击Go！     I MpEp}7  
    |W<wPmW_{+  
    ^W{+?q'  
    q ;1]M[&  
    场追迹结果（摄像机探测器） qQv?J]l  
     ayTEQS  
    AtGk _tpVZ  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 @.6l^"L  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 B0T[[%~3M  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [/.o>R#J(  
    -Xb]=Yf-  
    89?$xm_m  
     u|z B\zd  
    场追迹结果（电磁场探测器） > r6`bh [4  
    Y<0 [_+(  
    CXwDG_e  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ,dOd3y'y  
    ZaBGkDX5  
     ,IX:u1mO  
     
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