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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 @P@j9yR  
    n 9X:s?B/  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Je1'0h9d  
    #o/  
    %{*A@jQsg  
    aI'MVKwMk  
    建模任务 4u.Fy<+@4M  
    o$%I{}9x  
    v:7_ZD6kR  
    概观 oZCjci-  
    FT$Z8  
     a\@k5?  
    光线追迹仿真 {dF_ =`.  
    &u}]3E'-k  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 {I:nza  
    sJ !<qb5!  
    •点击Go! W8><  
    •获得3D光线追迹结果。 2iV/?.<Z&  
    XJI ff$K  
    5H!6 #pqM  
    *@(j'0hj  
    光线追迹仿真 k`u.:C&  
    EK=PY  
    X<*-d6?gD`  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 &]_2tN=S$  
    •单击Go! _Q=h3(ZI  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    n=8DC&  
    px>g  
    L7rH=gZ&!]  
    c*c 8S~6  
    场追迹仿真 5%K(tRc|  
    (S)jV 0  
    OB5t+_ s  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 J7Y lmi  
    •单击Go!
    ^2 }p%j >  
    31)eDs  
    >5c38D7k)  
    7LrWS83  
    场追迹结果(摄像机探测器) >= VCKN2'j  
    lV ra&5  
    WTX!)H6Zv  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 t8_i[Hw6D  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 kX8Ey  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 xwjiNJ Gj  
    g* DBW,  
    \{K~x@`  
    og)f?4  
    场追迹结果(电磁场探测器) t*dd/a  
    $s,Az_bs  
    t}x^*I$*  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    "Iu Pg=|#  
    -?Kd[Ma  
    &++tp5  
     
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