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摘要 0; v~5|r _IV@^v 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .crM!{<Y (VaN\+I:T  J 7ekIQgR e=l5j"gq 建模任务 RLz`aBT K WJgW{{v  4spaw ?j 概观 Oa wr S{ 6
2 `P K+  As~p1%nok 光线追迹仿真 mBZ Dl4 ' Rc a
Os •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 \678Nx @k +G
Cf
•点击Go！ %?oU{KzQ@;
•获得3D光线追迹结果。 L-C/Luws
4A/,X>W61
 2^ bpH% ' ?G[T28 光线追迹仿真 3y=<w|4F Q^Z<R A(C ^q&wITGI
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 !@Sf>DM "
•单击Go！ DV[ Jbl:)
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 gQh C cv 2v9s@k/k)6  v^],loi<V G#n^@k c*, 场追迹仿真 ]X:
rby$ oiv2rOFu %wjB)Mae
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 D d#
SUQ
•单击Go！ lDJd#U'V *[xNp[4EU  d0A\#H_ & BY4 R@) 场追迹结果（摄像机探测器） Iw t2}E(e
{ 1@4}R4 # HM\ a
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 9<A\npD
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8q~FUJhU
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )YnI !v2T
^wO_b'@v
 W l !!5\
~f=6?5.wa 场追迹结果（电磁场探测器） <Sprp]n
7 F/h :&B:; n.a=K2H:V
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 => uVp 7z g)h
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