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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 &QL!Y{=Y6  
    30Z RKrW"~  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 -n`igC  
    [# '38  
    SdTJ?P+m  
    7>`VZ?  
    建模任务 +#c3Y ;JP  
    rHWlv\+N n  
    o?$B<Cb"  
    概观 Lz9t9AoB  
    :z!N_]t  
    d* 6 lJT  
    光线追迹仿真 0` {6~p  
    ?5<Q+ G0r  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 $`emP Hel  
    rK\)  
    •点击Go！ ZE*m;  
    •获得3D光线追迹结果。 6DFF:wrm&  
    WD^!G;}  
     !)(c_ uz  
    vNhi5EU  
    光线追迹仿真 v{}i`|~J  
    0DBA 'Cv  
    {i7Wp$ug  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 %\ i 7  
    •单击Go！ SJtQK-%wK>  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     UtF8T6PKdW  
    aF9p%HPDw  
    {1Z`'.FU  
    &_^t$To  
    场追迹仿真 >h0iq  
    Z. ))=w6G  
    Y?(kE` R  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 zw`T^N#  
    •单击Go！     X4:\Shb97  
    swBgV,;   
    g{zvks~it  
    =7JvS~s  
    场追迹结果（摄像机探测器） S0\;FmLIc  
     P9)E1]Dc$  
    zqDIwfW  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 'E{n1[b  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 G`B e~NU  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 p9;Oe,Il  
    9y(75Bn9  
    hE41$9?TJ  
     ze<Lc/;X~  
    场追迹结果（电磁场探测器） GHaOFLY  
    kCXQHX  
    )Jx+R ;Z  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     vps</f!  
    W0X/&v,k*  
     T[}A7a6g_  
     
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