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摘要
O0';j!?X &*/8Ojv)9 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 xG\&QE asmMl9)(` _~| j~QE] (]vHW+' 建模任务 fA2H8"r K/
I3r_ )pW(Cp 概观 \y"!`.E7\d Iy6"2$%a CKmoC0. 光线追迹仿真 G!L=W#{ DNq=|?qn] •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 2.Th29] srw5&s(3X •点击Go! P`cEu6: •获得3D光线追迹结果。 t8E'd:pE `.>2h}op
e(O"V3wq*6 '9H7I! L@ 光线追迹仿真 0bzD-K4WVd .3 m^yo
c/ YFy5>*W •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 v%VCFJ •单击Go! GGo
nA •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 =Bu d! \\Fl,' l5l:'EY> JGHQ_AI 场追迹仿真 M%/ML=eLi gmJiKuAL5 /g< T)$2 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 e(@ YBQ/Z •单击Go! L*6Tz'Qp .fk!~8b[Q+ 6(f[<V!r r%}wPN(?D 场追迹结果(摄像机探测器) wv #1s3 M@[{j Ie`kzssM •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 J0~Ha u •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 8B"jvrs Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 lBvQ?CJ<y ?dVF@
WJ9Jj69 \/p\QT@mm 场追迹结果(电磁场探测器) 4(B{-cK jFZJ #'CNS 8j. 9Sk/ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 #*:y2W%H qY]IX9'kV
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