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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 _`,ZI{.J^  
    ^UFNds'q  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 d<w]>T5VW  
    s}bLA>~Ta  
    3Z7gPU!H=  
    [p]UM;+  
    建模任务 ?A-f_0<0  
    imB/P M  
    D Q c pIV  
    概观 :NB.ib@*  
    5f2=`C0_  
    "Jdi>{o8  
    光线追迹仿真 p$` ^A  
    :SY,;..3e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 $ 'yWg_(  
    3ug~m-_  
    •点击Go！ ;j+*}|!  
    •获得3D光线追迹结果。 Iz>\qC}  
    AtxC(g m 1  
     F)@zo/u5L  
    U~dqxR"Q  
    光线追迹仿真 kYR ^  
    nswhYSX  
    1K'cT\aFm  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 C 'S_M@I=  
    •单击Go！ ;Zn&Nc7  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     EYi{~  
    y. (m#&T  
    }9FWtXAU^1  
    K??jV&Xor  
    场追迹仿真 5'%O]~  
    Yu9VtC1  
    0wAB;|~*62  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 u`Kc\B Sn  
    •单击Go！     S"`{ JCW$  
    yh).1Q-D  
    I*/:rb  
    WcpH= "vm  
    场追迹结果（摄像机探测器） Nz%pl!  
     'Zqt~5=5  
    7e D` is  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E,ooD3$h  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 f lt'~fe  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 @gQ?cU7  
    qLw^Qxo  
    ad=7FhnIa3  
     "#iO{uMWb  
    场追迹结果（电磁场探测器） ZVit] 3hd  
    1&Ma`M('  
    uzLm TmM+  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     q6x}\$mL  
    iTF%}(  
     > kwhZ/x  
     
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