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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 O0';j!?X  
    &*/8Ojv)9  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 xG\&QE  
    asmMl9)(`  
    _~| j~QE]  
    (]vHW+'  
    建模任务 fA2H8"r  
    K/ I3r_  
    )pW(Cp  
    概观 \y"!`.E7\d  
    Iy6 "2$%a  
    CKmoC0.  
    光线追迹仿真 G! L=W#{  
    DNq=|?qn]  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 2.Th29]  
    srw5&s(3X  
    •点击Go！ P`cEu6:  
    •获得3D光线追迹结果。 t8E'd :pE  
    `.>2h}op  
     e(O"V3wq*6  
    '9H7I! L@  
    光线追迹仿真 0bzD-K4WVd  
    .3 m^yo c/  
    YFy5>*W  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 v%VCFJ  
    •单击Go！ GGo nA  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     =Bu d!  
    \\Fl,'  
    l5l:'EY>  
    JGHQ_AI  
    场追迹仿真 M%/ML=eLi  
    gmJiKuAL5  
    /g< T)$2  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 e(@YBQ/Z  
    •单击Go！     L*6Tz'Qp  
    .fk!~8b[Q+  
    6(f[<V!r  
    r%}wPN(?D  
    场追迹结果（摄像机探测器） wv # 1s3  
     M@[{j  
    Ie`kzssM  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 J0~Ha u  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8B"jvrs  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 lBvQ?CJ<y  
    ?dVF@  
    WJ9Jj69  
     \/p\QT@mm  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4(B{-cK  
    jFZJ #'CNS  
    8j. 9Sk/  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     #*:y2W%H  
    qY]IX9'kV  
     /0>Cy\eN0  
     
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