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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 fb:j%1WF  
    STw#lU) %(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 {]]|5 \F  
    &0BdUU+:<  
    .eO?Z^  
    -+em!g'  
    建模任务 pdEiqLhH  
    fiN3xP]V  
    {E0z@D)U-  
    概观 [e4]"v`N  
    )& <=.q  
    iTg;7~1pY  
    光线追迹仿真 1#4PG'H  
    {Pu\?Cq  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .ol'.t ,S  
    Z0>DNmH*  
    •点击Go！ 4~OQhiJ   
    •获得3D光线追迹结果。 hw~a:kD  
    lM[XS4/TRa  
     h}Wdh1.M3  
    @Ehn(}  
    光线追迹仿真 xN@Pz)yo  
    GzTq5uU&  
    $eBX  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 AisN@  
    •单击Go！ A=-F,=k(!/  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     6k/U3&R  
    UP{j5gR:_  
    O!Z|r ?  
    45H!;Q sk  
    场追迹仿真 ^U8r0]9  
    N=)z  
    xyE1Gw`V  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x)_@9ldYv  
    •单击Go！     -sMytHH.  
    iY bX  
    .~gl19#:T  
    <d7V<&@o=  
    场追迹结果（摄像机探测器） **[Z^$)u(  
     CC3v%^81l^  
    )P>u9=?,=E  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ;*[9Q'lI*  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 TjBY 4  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 jUqy8q&  
    i$KpDXP\  
    sF+=KH  
     da$BUAqU  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ab1/.~^  
    @l UlY2  
    xDO7A5  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     k 2%S`/:  
    v1.q$ f^(  
     0%;146.p  
     
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