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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 <lZVEg  
    QQ/9ZI5  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 }U^iVq*  
    84lT# ^q  
    _ G$21=  
    ?>1wZ  
    建模任务 Y1;jRIOA  
    P\y ZcL  
    ^v&"{2  
    概观 Doe:m#aNj  
    65vsQ|Zw  
    \Ez&?yb/  
    光线追迹仿真 uO((Mg  
    ?X+PNw|pf  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @8Cja.H  
    98maQQWD  
    •点击Go！ z:8ieJ)C  
    •获得3D光线追迹结果。 ]*X z~Ox2  
    k]9y+WC2  
     -;O"Y?ME  
    "H9q%S,FH  
    光线追迹仿真 5`6U:MDq  
    u}?|d8$h\  
    mLV0J '  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 N[I ?x5:u  
    •单击Go！ p@?ud%  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Uuktq)NU  
    q>6RO2,  
    BQ=JZ4&  
    +Mb}70^  
    场追迹仿真 vs{VRc  
    \.?' y71  
    yb-4[C:i  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 T5-Yqz  
    •单击Go！     .7+"KP:  
    Z6nQW53-  
    g77:92  
    <r)5jf  
    场追迹结果（摄像机探测器） E_0i9  
     }((P)\s  
    Q]]M;(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4WPco"xH!  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 bduHYs+rq  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 KuF>2KX~Y  
    [sK'jQo-[1  
    Rl (+TE  
     9 RC:-d;;_  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4YXp,U  
    hP_{$c{4:g  
    Qnx?5R-}ZU  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     39x 4(  
    [xXV5 JU  
     <.ZD.u  
     
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