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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 SB\T iH/  
    1X$hwkof  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 2E d  
    !JE=QG"  
    ZJeTx.Gi6  
    oiY&O]}  
    建模任务 sU }.2k  
    6fr@y=s2:  
    8!q$8]M  
    概观 GVt}\e~"  
    ("$ ,FRTQ:  
    b&~s}IX   
    光线追迹仿真 T6=q[LpsKN  
    1=.+!Tg  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 %.3] F2_Q  
    >:yU bo)  
    •点击Go！  }FoO  
    •获得3D光线追迹结果。 >84:1 `  
    i9%cpPrg8  
     Hjtn*^fo^  
    ( @y te  
    光线追迹仿真 5v@-.p  
    95%, 8t  
    (iw)C)t*u  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Z 71.*  
    •单击Go！ Q+]9Glz9  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     X_nxC6[m%  
    -g;cg7O#(  
    "2~%-;c  
    [O52Bn  
    场追迹仿真 #lHA<jI  
    WFBVAD  
    *U69rbYI  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 KL}o%wfLy  
    •单击Go！     %m5&U6  
    c7fQ{"f 3B  
    "o ^cv  
    #^FDFl  
    场追迹结果（摄像机探测器） ao(lj  
     V<+= t{  
    'QrvkQ  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 [c=T)]E1  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8A3pYW-  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 9gLUM$Kd  
    uK5&HdoM  
    z#!}4@_i3  
     =Hs[peO*  
    场追迹结果（电磁场探测器） rL=_z^.P  
    kA1C&  
    '"/Yk=EmlU  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     keYvscRBI  
    apxY2oE&  
     }wh sZ  
     
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