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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 :BukUket1e  
    d:q +  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 q;D+ai  
    R@yyur~'_(  
    !k(_PM  
    CGP3qHrXt  
    建模任务 ;.Ie#Vr1N  
     6vTo*8D  
    gx:;&4AD  
    概观 q$.{j"cZV  
    C*te^3k>B  
    hv$m4,0WB  
    光线追迹仿真 %77p5ctW  
    1b>C<\  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。  oM1 6C|  
    SL&hJs4c'  
    •点击Go！ 4YMX|1wd)  
    •获得3D光线追迹结果。 qxMnp}O  
    vhT_=:x  
     Y'3}G<'%  
    W*:,m8wk  
    光线追迹仿真 0g<K[mPr7  
    ~; OYtz  
    E%TpJl'U  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9H]Lpi^OH  
    •单击Go！ NO K/<_/  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     (|fm6$  
    Ld,5iBiO:  
    i=32KI(%  
     `}no9$l~  
    场追迹仿真 |m?vVLq  
    5[9 bWB{  
    ]AS"z<  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~Z lC '  
    •单击Go！     zMK](o1Vj  
    p'?w2YN/  
    |"$uRV=qm  
    7C?.L70ZY  
    场追迹结果（摄像机探测器） 1GE|Wd  
     `wTlyS3[  
    N(3R|Ii  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 nxap\Lf  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 |\uYv|sT  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 -,":5V26  
    \H5Jk$*  
    N 6O8Wn  
     <B&R6<]T  
    场追迹结果（电磁场探测器） snp v z1iS  
    `Xc irfp  
    Y &r]lD  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     W*xX{$NL  
    m^\TUj  
     ;<G<1+  
     
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