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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 SZ1+h TY7d  
    A}H)ojG'v  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 z/6kxV89  
    1i2jYDB"  
    SobK<6  
    G)5%f\&  
    建模任务 Ax=Rb B"  
    ?Xh=rx_  
    m`4Sp#m  
    概观 ~?[%uGI0h  
    Q4CxtY  
    HQQc<7c ",  
    光线追迹仿真 %$!}MxUM  
    jP@H$$-=wH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 bYgrKz@uK  
    Ur?a%]  
    •点击Go！ !;zacw  
    •获得3D光线追迹结果。 5a5 I+* c  
    %CD}A%~  
     `)1_^# k  
    H5^ 'J`0\  
    光线追迹仿真 Co[  rhs  
    B=u@u([.  
    |DwI%%0(F  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 !OPa `kSh  
    •单击Go！ PZeVjL?E  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     o-GlBXI;  
    _Bb/~^  
    nFX8:fZ$>  
    &AZr (>  
    场追迹仿真 aoI{<,(  
    `fY~Lv{4d_  
    ?`,Xb.NA$K  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 fC&Egy  
    •单击Go！     qZ6P(5X  
    o*'J8El\y^  
    k8 ,.~HkU  
    m~(]\  
    场追迹结果（摄像机探测器） wu/]M~XwI  
     ~ NK w}6  
    A^bg*t,  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 tm#T8iF  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]wER&/v"  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 1EyM,$On  
    u"?cmg<.1  
    jxZ R%D  
     %_KNAuM  
    场追迹结果（电磁场探测器） CmY'[rI  
    VbKky1a@  
    vd9l1"S  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     FC.y%P,  
    ?U cW@B{  
     `.#e4 FBW  
     
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