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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 "rl(%~Op  
    1R-1#<a>&  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 pVm]<jO  
    @n|Mr/PAj  
    8'sT zB]  
    7];AB;0"  
    建模任务 yN@3uYBF  
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    $Wy(Wtrx|  
    概观 8_W=)w6  
    xF8U )j !  
    9ZJn 8ki  
    光线追迹仿真 )tvP|  
    ZA1:Y{ V  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 $.+_f,tU  
    omP\qOc  
    •点击Go！ :  I q  
    •获得3D光线追迹结果。 ~:JoKm`vU  
    @> |3d  
     :~^_*:  
    d6+$[4w  
    光线追迹仿真 n 9>**&5L  
    W(jOD,QMB  
    fzdWM:g  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ""f'L,`{.  
    •单击Go！ yR3pK 0Y(?  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     oBS m>V  
    {{r.?m#{  
    7!;H$mxP  
    _j\GA6  
    场追迹仿真 ]5O]=^ u0  
    c4f3Dr'xw  
    %f?Z/Wn  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Yi?v |H<a  
    •单击Go！     0f5c#/7C9  
    !AXt6z cZ  
    bu8AOtY9E-  
    *t{^P*pc  
    场追迹结果（摄像机探测器） [C#H _y(  
     XfQK kol  
    oh0*bh  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 /:;"rnvq  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 aGAeRF  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ,<(0T$o E[  
    @tIY%;Bgk  
    MBqw{cy  
     <y=+Gh  
    场追迹结果（电磁场探测器） zCdcwTe  
    oLS/  
    $KVCEe!X  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     KG=57=[  
    b5S4C2Ynq  
     R=J5L36F  
     
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