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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 ::{Q1F  
    \B,@`dw  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .jT#:_  
    c?[I?ytl  
    G[I"8iS,  
    ++Ts  
    建模任务 c>:wd@w  
    ZyPVy  
    9u}Hmb  
    概观 rgtT~$S  
    hxd`OG<gF  
    'Nn zk  
    光线追迹仿真 3/e.38m|  
    ;d"F%M y  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 '3D XPR^B6  
    ;1O_M9  
    •点击Go！ `1{ZqRFQ  
    •获得3D光线追迹结果。 rkCx{pe9  
    &n}f?  
     !_D0vI;  
    KD7dye  
    光线追迹仿真 &zeyE;/Hj  
    e95Lo+:f  
    (WO]Xq<  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vB|hZTW  
    •单击Go！ Tc &z:  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     tla 5B_  
    sF?TmBQ*  
    ^"1n4im  
    YPK(be_|I  
    场追迹仿真 QP8Ei~  
    A_ N;   
    2E/"hQw  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )E@.!Ut4o  
    •单击Go！     0s3%Kqi[  
    =eXU@B  
    dIa+K?INX  
    (\hx` Yh=>  
    场追迹结果（摄像机探测器） 1;r|g)VM  
     5Y'qaIFR  
    X0H!/SlS  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 FR4QUk  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ?2;&O`x*  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 #Z`q+@@ ]A  
    +wvWwie  
    m=A(NKZ   
     m}aB?+i  
    场追迹结果（电磁场探测器） ," Wr"  
    i,E{f  
    aS{n8P6vW  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     &<5zqsNJ\a  
    )=Z>#iH1  
     3<Zq ]jk?n  
     
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