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摘要 M[&.kH jb6ZAT<8 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 'PxL^ \Ho#[k=y*/ cqU$gKT }&'yt97+ 建模任务 7D9h;gsP tL|L"t_5x [{Klv&>_/ 概观 ]2u7?l PhI{3B/ f(zuRM^5 光线追迹仿真 v@<lEG#$"| 'p{Y{
$Q •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ir1RAmt% f{oxF?|89 •点击Go! 8?]%Qi •获得3D光线追迹结果。 ek_i{'hFd +eVpMD(
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YpbdScz ygu?w7 光线追迹仿真 +O%a:d% q0xE&[C[M xf3/<x!B •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |7 W6I$Xl •单击Go! xDAA`G •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 2{Lc^6i(t o2t@-dNi *?
orK o !IrKou)/_ 场追迹仿真 =V4_DJ(& z8rh*Rfxd |cBF-KNZ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 q'U-{~q% •单击Go! 62KW
HB9S pRyS8' FPM}:c4 9dhFQWz" 场追迹结果(摄像机探测器) I.n{ "=$B@ j^R~ Lt4 -_H2FlB •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 GCmVmOdKr •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 '$&(+>)z` Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 laIC}! E EnTq
S7~l%G>]b "NI>HO.U 场追迹结果(电磁场探测器) Y3F.hk}O `J;/=tf09 ^IegR> •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 MLDg).5 c^/?VmCQ}
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