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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 CMG&7(MR  
    7p16Hv7y~  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 :B5Fdp3  
    */^q{PsN  
    {14fA)`%  
    gpvYb7Of0  
    建模任务 *-=(Q`3  
    Zd}9O jz5  
    FF(#]vz'  
    概观 PI:4m%[  
    O1U=X:Zl  
    RYQR(v  
    光线追迹仿真  v zs)[AD  
     +yH7v5W  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 TA`1U;c{n  
    *ebSq)  
    •点击Go！ c%2QZC  
    •获得3D光线追迹结果。 ;!mzyb*  
    M4oy  
     [P=Jw:E  
    vrhT<+q  
    光线追迹仿真 gx8ouOh  
    *yt=_Q  
    ,c$_t+  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 3G)#5 Lf<  
    •单击Go！ Yz/md1T$  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     NMa}{*sQ  
    Pg0x/X{t  
    9N%We|L,c  
    D9 CaFu  
    场追迹仿真 &0OG*}gi  
    hOu3 bA  
    .9on@S  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 q77;ZPfs8  
    •单击Go！     Utj&]RELK  
    1EO7H{E=  
    8>2.UrC  
    b8`)y<7  
    场追迹结果（摄像机探测器） M=.n7RY-  
     [LjT*bi  
    g:'xae/]S  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 qPX~@^`9  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 L O_k@3  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 \ =?a/  
    w(*vj  
    TluW-S  
     UqFO|r"M  
    场追迹结果（电磁场探测器） 2\A$6N ;_  
    KQaxvU)L  
    {7"Q\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     xaq-.IQAM$  
    }{K) 4M  
     ~:rl=o}  
     
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