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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 M[&.kH  
    jb6ZAT<8  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 'PxL^  
    \Ho#[k=y*/  
    c qU$gKT  
    }&'yt97+  
    建模任务 7D9h;gsP  
    tL|L"t_5x  
    [{Klv&>_/  
    概观 ]2u7?l  
    PhI{3B/  
    f(zuRM^5  
    光线追迹仿真 v@<lEG#$"|  
    'p{Y{ $Q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ir1RAmt%  
    f{oxF?|89  
    •点击Go! 8?]%Q i   
    •获得3D光线追迹结果。 ek_i{'hFd  
    +eVpMD( l  
    YpbdScz  
    ygu?w7  
    光线追迹仿真 +O%a:d%  
    q0xE&[C[M  
    xf3/<x!B  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |7 W6I$Xl  
    •单击Go! xDAA`G  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    2{Lc^6i(t  
    o2t@-dNi  
    *? orK o  
    !IrKou)/_  
    场追迹仿真 =V4_DJ(&  
    z8rh*Rfxd  
    |cBF-KNZ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 q'U-{~q%  
    •单击Go!
    62KW HB9S  
    pRyS8'  
    FPM}:c4  
    9dhFQWz"  
    场追迹结果(摄像机探测器) I.n{ "=$B@  
    j^R~ Lt4  
    -_H2FlB  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 GCmVmOdKr  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 '$&(+>)z `  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 laIC}!  
    EEnTq  
    S7~l%G>]b  
    "NI>HO.U  
    场追迹结果(电磁场探测器) Y3F.hk}O  
    `J;/=tf09  
    ^IegR>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    MLDg).5  
    c^/?VmCQ}  
    &-. eu  
     
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