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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 X4"[,:Tw  
    D.h<!?E%  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 lPz5.(5'  
    ; d}  
    n>%TIoY  
    |G)bnmi7  
    建模任务 [U{RDX  
    1 EHNg<J(  
    fJY b)sN  
    概观 11JO[  
    u_$Spbc]/  
    92*Y( >  
    光线追迹仿真 <Q.-WV]Z  
    BFn}~\wzK  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 u?8e>a  
    3N{ ZX{}  
    •点击Go！ 4_\]zhS  
    •获得3D光线追迹结果。 hPUYq7B  
    ,q Bu5t  
     cp+eh  
    79U 7<]-!  
    光线追迹仿真 +L#):xr  
    hhOrO<(  
    3. g-V  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 dJZ 9mP!d  
    •单击Go！ f&Meiu+  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     r$Y% 15JV  
    sT"{ e7;F;  
    ~Q 1%DV.  
    [0n&?<<  
    场追迹仿真 Yc V*3`  
    T<ekDhlr  
    $ZE"o`=7  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 %C*h/AW)'  
    •单击Go！     LD}ZuCp!  
    vlZ?qIDe  
    {I"d"'h  
    skfFj&_T  
    场追迹结果（摄像机探测器） `LVX|l62  
     n15lX,FI  
    wB0ONH[  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 %g%#=a;]q  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~r>N  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Z9 tjo1X  
    ,0[h`FN  
    NU|T`gP  
     xBMhk9b^0  
    场追迹结果（电磁场探测器） |;P9S  
    q P>Gre  
    ,LJX  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     E@\bFy_!>b  
    B1a&'WX?  
     X2p9KC  
     
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