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摘要 a RC >pK. uw&GXOzew9 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 S `5^H~ n Uz 2~z  #&\^{Z W 0K&mBu 建模任务 "/[-U;ck a 9(1 6k  $oHlfV/! 概观 c_)vWU Y]0oF_ :7  'bN\bbR 光线追迹仿真 dMp7 ,{FhF u7UqN •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 &^8 >Kd8 Pv1C o:
•点击Go！ t IdH?x
•获得3D光线追迹结果。 KIps {_J[<
Hz`rw\\Xq
 3x #=@i 9qc1^Fs~ 光线追迹仿真 .[? E1w e Vrf2%$g vHZw{'5y
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 5][ Rvu0
•单击Go！ ^VR1whCrx
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 :=+s^K gEcVQPD@  i%GjtYjS 2fT't"gw 场追迹仿真 U
SX z /XjIm4EN 7]_UZ)u
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 +*WE<4"!6
•单击Go！ =3?t%l;n Oj:O-PtN2  6d&BN7B L[)+J2_< 场追迹结果（摄像机探测器） 4xuL{z;\
0NK]u~T< : c"J$wT/
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c=<d99Cu!
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 J*F-tRuEw
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 6 A7U W7/
#IDDKUE
 R XkE"H{
/7De .O~H 场追迹结果（电磁场探测器） wh
l)^D #\"8sY,j 5m&{ f>]T
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 U5j Y/e_ 12])``9
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