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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 '"Cqq{*  
    Cpzdk~+H  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 HF*~bL  
    +;H=_~b  
    uA`e  
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    建模任务 )~P<ruk>,C  
    Ym%# "  
    ;E}&{w/My  
    概观 4P C'7V=S  
    )YCH>Za  
    1`II%mf[  
    光线追迹仿真 zt((TD2  
    C&q}&=3r  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 M|y!,/'  
    w8>lWgN  
    •点击Go！ ;[zZI~wh  
    •获得3D光线追迹结果。 @#"K6  
    2+|r*2_glo  
     yyPj!<.MGP  
    =M{&g  
    光线追迹仿真 &xj40IZ  
    xR'd}>`  
    a"+VP>4  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 q q^[(n  
    •单击Go！ M#o=.,  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     qvsfU*wo?  
    D9(4%^HxV1  
    u`L*  
    L7II>^"B  
    场追迹仿真 I%?M9y.u6  
    d6W&u~  
    Ux,dj8=o  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 8=\k<X{`  
    •单击Go！     2}{[ J  
    G*v,-O  
    9Up> e  
    .Gno K?  
    场追迹结果（摄像机探测器） ]~WIGl"g  
     ,! ~U5~  
    e?aSM  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 KE)^S [Da  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 [xs`Pi  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )P/~{Ci:T&  
    m[5ed1+  
    H]lD*3b  
     V6<Ki  
    场追迹结果（电磁场探测器） HV3D$~gF  
    yErvgf  
    "MT{t><  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     BW)t2kR&  
    (+\K  
     is- {U? -  
     
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