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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 Z[slN5]([  
    pzCD' !*  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 WIQt5=-  
    (TDLT^  
    EX='\~Dw  
    >8#(GXnSt  
    建模任务 <xOpm8  
    , .x5  
    ^{zwIH2I]  
    概观 e*jn7aya  
    >Czcs=(L.k  
    O_FT@bo\  
    光线追迹仿真 |&o1i~Y  
    Q{Jz;6"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 0v,DQJ?w8  
    jcYI"f"~  
    •点击Go！ {o*ziZh  
    •获得3D光线追迹结果。 .1t$(]CyC  
    Go^W\y   
      ?MPM@9  
    n,9 *!1y  
    光线追迹仿真 =9LC "eI&|  
    BO#fzq%  
    tV[?WA[xt  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 lF 8B+  
    •单击Go！ v7\~OOoH]  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     +`yDWN?7  
    a`~$6 "v  
    tPDV"Md#m<  
    W7O%.xP  
    场追迹仿真 ahhVl=9/ao  
    i5(_.1X<#{  
    H]mY6D51"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 \$yI'q  
    •单击Go！     R0gjx"U  
    aCMF[ 3j  
    $ *MjNj2  
    mucY+k1>g  
    场追迹结果（摄像机探测器） ) ok_"wB  
     &pZ]F=.r+  
    `Rm2G  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 WLDt5R  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 gA`/t e  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 l9qq;hhGP,  
    5\S)8j `8  
    {>5z~OV  
     Rdwr?:y(]  
    场追迹结果（电磁场探测器） E IsA2 f  
    lh(A=hn"n  
    ;k (}~_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     DJr 8<u  
    9cQKXh:R.  
     N{q5E,}  
     
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