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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 1:;S6{oQ  
    .LI(2lP  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _Kwp8_kTr  
    G0Y]-*1  
    w| eVl{~p  
    N;` jz(r  
    建模任务 9<Ks2W.N  
    Qf($F,)K  
    x8!uI)#tS  
    概观 ]o?r( 1  
    L_sDbAT~<  
    c5(4rT{(m  
    光线追迹仿真 e'|IRhr  
    v\2- %  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _$KE E|9  
    /hSEm.<  
    •点击Go！ lOy1vw'  
    •获得3D光线追迹结果。 aQ*?L l  
    @]YEOk-  
     F4]=(T  
    :/R>0n,  
    光线追迹仿真  r m  
    VDFs.;:s  
    7/zaf  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 (L*<CV  
    •单击Go！ sSy!mtS  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ;(@' +"  
    watTV\b  
    YYhN>d$  
    12@Ge]  
    场追迹仿真 l5nm.i<M  
    JAX`iQd  
    WP{U9YF2  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 u'T?e+=  
    •单击Go！     0Ibe~!EiQJ  
    L{0\M`B-  
    7J1f$5$m5  
    ++ZP X'|  
    场追迹结果（摄像机探测器） f#McTC3C  
     I;9C":'#  
    XS$#\UQ  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 \}J"`J\Q  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 y@(EGfI  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Z*n4$?%W  
    lNz1|nS(Kd  
    ,3 [FD9  
     \dbaY:(  
    场追迹结果（电磁场探测器） i9|}-5ED  
    3hVuC1;"  
    &4wwp!J  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ~ike&k{  
    WfHa  
     %]1te*_  
     
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