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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 zP}v2  
    RfG$Px '  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 {W<-f?  
    Ai18]QD-  
    FaE orQ  
    :j<JZs>`R  
    建模任务 ZF (=^.gc  
    gq3OCA!cX  
    ot#kU 8f  
    概观 z&,sm5Lb  
    e622{dfVS  
    oH0F9*+W  
    光线追迹仿真 #9VY[<  
    W%K8HAP"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 L$ Ar]O)  
    y/hvH"f  
    •点击Go！ gEHfsR=D6  
    •获得3D光线追迹结果。 .oN Sg.jG  
    "0zXpQi,B  
     }A/&]1GWk  
    6RQCKN)  
    光线追迹仿真 q<[ke   
    dt&Lwf/  
    ]Wt6V^M'@  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vqz#V=J{  
    •单击Go！ #'J7Wy  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     l!V| T?  
    Z;SG<  
    (A fbS=[  
    ]{+M>i[  
    场追迹仿真 /M*\t.[ 46  
    ,h.Jfo54,  
    bK$D lBZ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。  / !  
    •单击Go！     U{uWk3I_b  
    ;}jbdS3  
    He-Ja  
    cW\Y?x   
    场追迹结果（摄像机探测器） !XA%[u  
     (g2r\hI  
    qs1.@l("  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 pXj/6+^  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 P| P fG=  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 $0 S#d@v}  
    .P :f  
    )F#<)Evw  
     /Q>{YsRRB  
    场追迹结果（电磁场探测器） Fif^V  
    ~eOj:H  
    E(3+o\w  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     <Bb<?7q$ld  
    '[yqi1 &  
     `NWgETf^#  
     
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