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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 a+J :1'  
    i:W oT4  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Ar>Om!]=v  
    Q&n|tQ*4  
    {Y IVHl  
    eo,m ^&  
    建模任务 O9g{XhMv>f  
    FUHa"$Bg  
    \yM[?/<  
    概观 JRl8S   
    ;/e!!P]jP  
    {;z3$/JB  
    光线追迹仿真 *d(wO l5[  
    =Ybbh`$<  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 T0aK1Lh  
    `~*qjA  
    •点击Go！ drN^-e  
    •获得3D光线追迹结果。 F,4Q  
    NO6.qWl  
      V+(  
    mp@JsCU  
    光线追迹仿真 {!E<hQ2<$9  
    yqCy`TK8  
    uOZ+9x(  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 >.M `Fz.  
    •单击Go！ $\0j:<o  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     t6 js@Ih  
    \r<&7x#j  
    qr6WSBc  
    GK\'m@k  
    场追迹仿真 @NX^__ sa  
    ym1TGeFAq  
    E<~/AReo  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 @dcW0WQ\  
    •单击Go！     !y*V;J  
    (<1DPpy95O  
    tF`>.=  
    (-"A5(X:/  
    场追迹结果（摄像机探测器） /\Q{i#v  
     S,Oy}Nv  
    -?@ $`{-K  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 > %d]"]  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。  Ya=QN<  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 BPi>SI0  
    u4Vc:n  
    8l)l9;4 6  
     J"[OH,/_  
    场追迹结果（电磁场探测器） M: `FZ}&L  
    Bt.W_p  
    @#o$~'my  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ^hbh|Du  
    ~ |!q>z  
     Z$[A.gD4  
     
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