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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 ?k [%\jq{a  
    RXGHD19]  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 S3SV.C:z>  
    M6J/mOVx5  
     ;KZrl`  
    'dkXYtKCB  
    建模任务 Y.q>EUSH  
    }KK2WJp#M  
    XR|"dbZW.0  
    概观 {I`B[,*  
    }c} ( 5  
    /@Ez" ?V2  
    光线追迹仿真 -g:lOht  
    3@&bxYXm  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 pss6Oz8  
    w|=gSC-o  
    •点击Go！ 'g]hmE  
    •获得3D光线追迹结果。 bFSlf5*H  
    jRofG'  
     1xz\=HOT  
    Ejq=*UOP  
    光线追迹仿真 SC'BmR"ox  
    "ml?7Xl,n  
    ^"1TPd|  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 5|{)Z]M%9  
    •单击Go！ O:1DOUYXs  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Y[Es  
    R8tF/dx>7  
    eK9TAW  
    Qu`n&  
    场追迹仿真 VMx%1^/(  
    gC`)]*'tE  
    wy''tqg6  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 _vL<h$vD  
    •单击Go！     N0Gf0i>  
    9mQ#L<Ps  
    B s,as  
    :lK4 db  
    场追迹结果（摄像机探测器） {DT4mG5  
     &s:=qQa1  
    B20_ig:  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 R*yU<9Mm8  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~n6[$WjZA  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 I_?He'=0oU  
    ~Eq\DK  
    ('t kZt%8  
     "x&3Z@q7  
    场追迹结果（电磁场探测器） kg3ppt  
    0O~p7D  
    @rO4y`  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     *zy'#`>  
    ?>V6P_r>  
     Zm(dY*z5:J  
     
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