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摘要 }K3!ujvR ?7k%4 ~H t 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 l!7O2Ai5 v<u`wnt  S`t@L} "54t7 建模任务 &)Z!A*w] iD"9,1@~n  N*$L #L$* 概观 GYJ
lX Li2 -G  /&jh10}H 光线追迹仿真 9\J6G8b>|I OF_g0 Zu •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 b,#lw_U" r!C#PiT}I
•点击Go！ -:]-g:;/
•获得3D光线追迹结果。 YEiQ`sYKG
d) i64"
 d!z}!
: *Y\C5L ] 光线追迹仿真 , b;WC Wm K. P 1| pf@H;QS`
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Bkaupvv9S
•单击Go！ WET nrA"N
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 81jVjf?` -#agWqUM|T  Jb1L[sT2 Ng 3r`S"_< 场追迹仿真 ^Ee"w7XjD 7,BULs \g dd6m/3uUW
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 vlSS w+r9
•单击Go！ ymo]. (;6v T'hE  &4}Uaxt) /Y_)dz^ @ 场追迹结果（摄像机探测器） w;=g$Bn
T-)lnrs^ !=SBeq
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 8nKb
m jM
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 24b?6^8~k
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 appWq}db
M:/)| fk
 57~/QEdy
gi #g)9HG 场追迹结果（电磁场探测器） 2M$^|j:[ Gw@]w;ed tmVGJ+gz
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 }T1.~E 29tih{ xx
 FzM<0FJRX
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