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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 ,CnUQx0  
    )auuk<  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 G I#TMFz3  
    9!Vp-bo  
    v5`Odbc=w  
    K#plSD^f=  
    建模任务 @#| R{5=+  
    IeJ@G)  
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    概观 n`7n5M*  
    Re'Ek  
    u5dyhx7  
    光线追迹仿真 IR*:i{  
    4(\7Or(''  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 SlUt&+)  
    h3kBNBI )  
    •点击Go！ Px"K5c*  
    •获得3D光线追迹结果。 IN94[yW{1  
    M.}QXta  
     %b`B.A  
    aV?r%'~Z  
    光线追迹仿真 }@w Xm  
    7$I *ju_  
    0B~Q.tyP  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Nh\y@\F>  
    •单击Go！ AkR ZUj\  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ;V3d"@R,  
    ,<?M/'4}G  
    j<* `?V^  
    ph=[|P)  
    场追迹仿真 yj{:%Km:`  
    &:)e   
    @;@Wt`(2a  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Li\BRlebR{  
    •单击Go！     uDi#a~m@  
    UQ 'U 4q  
    W4(O2RU  
    jj 9eFB  
    场追迹结果（摄像机探测器） W'9=st'  
     7?JcB?G4  
    Y^f12%  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y_<(~eN`  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8RR6f98FF  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 /q8?xP.   
    1)m&6:!b  
    mg^\"GC*8  
     S+YbsLf  
    场追迹结果（电磁场探测器） TID0x/j"K5  
    cZ~\jpK  
    .U !;fJ9  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     emI]'{_G  
    wc'K=;c  
     O(E-ox~q  
     
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