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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 aFnyhu&W'  
    rWJRoGk/  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 B\|^$z2  
    -'oxenu  
    $rjm MSxi  
    9l[C&0w#\  
    建模任务 )g&nI <Mh  
    [$>@f{:  
    N>s3tGh  
    概观 *c.w:DkfB  
    %"E!E1_Sv  
    3<Z@!ft8  
    光线追迹仿真 ^}gZ+!kA  
    -e51 /lhpd  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 v-F|#4Q=ut  
    0ly6  |:  
    •点击Go！ `Lw Z(M-hI  
    •获得3D光线追迹结果。 e=tM=i"  
    &"1_n]JO  
     <X5V]f  
    fA V.Mj-  
    光线追迹仿真 EN>a^B+!  
    su60j^e*  
    m,4'@jg0  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 NP.qh1{NP  
    •单击Go！ /byF:iYI  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     4&L,QSJ V  
    8M['-  
    ARJtE@s6Y  
    =(<7o_gJ  
    场追迹仿真 UBuG12U4Y  
    '7]9q#{su  
    sWq}/!@&  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {v3@g[:|  
    •单击Go！     Ox aS<vQ3  
    EL *l5!Iu  
    Pl|*+g  
    z.t,qi$;{U  
    场追迹结果（摄像机探测器） Z 2uU'T  
     x;7p75Wm  
    #KLW&A  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 } f!wQx b  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 M7gqoJM'Q  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 CS xB)-  
    b Sg]FBaW  
    61b<6 r0o  
     k a8=`cn  
    场追迹结果（电磁场探测器） 9\r5&#<(I  
    0M}Ql5+h,  
    XOZ@ek)LY  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     8L))@SA+uJ  
    eA9r M:  
     OH5#.${O  
     
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