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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 m/3,;P.6  
    14DhJUV"b  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 r{ KQ3j9O  
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    qrf90F)  
    yy Y\g  
    建模任务 x4K A8  
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    概观 d( yTz&u)  
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    ~+C)0Yn  
    光线追迹仿真 2 w6iqLr?  
    ( k,?)  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 aS``fE ;O  
    S=j pn  
    •点击Go！ O7p=N8V  
    •获得3D光线追迹结果。 /+1(,S  
    3W%j^nM  
     \ef:H&r  
    d<6m_! L  
    光线追迹仿真 pD('6C;  
    *E]:VZl  
    7Ie=(x8):  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 rsq?4+\  
    •单击Go！ s94 *uZ(C/  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     eC94rcb}i{  
    kD0bdE|  
    ]6F\a= J  
    {PR "}x  
    场追迹仿真 F0~<p[9Nx  
    '/)qI.  
    d&\3}uH  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 2$ &B@\WY  
    •单击Go！     : _tt9J  
    S@g(kIo]  
    ~GcWG4  
    I _gE`N  
    场追迹结果（摄像机探测器） i4]oE&G  
     gJCZ9{Nl  
    \EsT1aT  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $rlrR'[H  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Vn_~ |-Wt  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 VZq~ -$  
    . !Pg)|  
    uovv">Uw  
     :.r_4$F:  
    场追迹结果（电磁场探测器）  dOa9D  
    |-)8=QDz)r  
    yYaoA/0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     !=A;?Kdq  
    2:_6nWl  
     6i2%EC9  
     
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