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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 L'J$jB5cP  
    }KCXo/y  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 *hF5cM[  
    BEg%u)"([  
    $d:/cN 8E  
    ]d9;YVAU  
    建模任务 /jC0[%~jV  
    ` R!0uRu  
    QVL92"  
    概观 Fb*^GH)J  
    9TO  
    j()_ VoB1  
    光线追迹仿真 KAjKv_6=g  
    )Y\},O  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 *P$5k1  
    q_g'4VZv  
    •点击Go！ pHsp]a  
    •获得3D光线追迹结果。 Fr,>|  
    FnP/NoZa>  
     IA&((\YC  
    HGC>jeWd_  
    光线追迹仿真 M98dQ%4I  
    gA2Il8K  
    r1}OlVbK  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 AXH4jQw  
    •单击Go！ @H@&B`Kd  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     I=D`:u\H  
    )KaQ\WJ:   
    ~fAdOh  
    |C=^:@}ri?  
    场追迹仿真 &Km?(%?  
    PP[{ c  
    XsQ<ye un  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 NqkRR$O  
    •单击Go！     f>\?\!  
    CYEqH2"3  
    %ia/i :  
    [LL"86D  
    场追迹结果（摄像机探测器） 6@wnF>'/\  
     H }uT'  
    ^\e:j7@z  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 *B)>5r  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 @-qxNw  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 t<|=-  
    ?.v!RdM+  
    Nq9Qsia&  
     .m;1V6  
    场追迹结果（电磁场探测器） cGsP0LkHC  
    ^-4mZXAy1|  
    17$JBQ,[  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     "0`r]5 5d  
    Ny*M{}E  
     P;MS%32  
     
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