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摘要 (k{rn3, 3~Qvp )~ 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 f-w-K)y$ht k!{0ku}]  s-\.j-Sa p};B*[ki 建模任务 <!+T#)Qi %Tc P[<  B%~hVpm,eM 概观 r&^xg`i[z> Z *9Qeu-N:  "OIra 2O 光线追迹仿真 }8H_^G8 <ptskbu •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 |4=Du -e k0%*{ IVPN
•点击Go！ `k ^d)9
•获得3D光线追迹结果。 F&ud|X=m
) oEHE7 y
 j. @CB` Ya%-/u 光线追迹仿真 v)^8e0vx byT@O:f L R2]2#3`
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /|
nZ)?
•单击Go！ a an)yP
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 aP#nK f!|$!r*q  7 W)*IJ Yy, i,c`r 场追迹仿真 kOu C@~, %OI4}!z@l *,h g+?lZ
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 S<
TUZ
/;
•单击Go！ V^v?; f? <BUKTRq  Ne 2tfiI` =vd9mb- 场追迹结果（摄像机探测器） e`N /3q7
f Fr[
&\[ 8ZnHp~
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 il=:T\'U9
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 SxAZ2|/-
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 DdI
V~CxD
D lD;rL=
 g>@T5&1q*
W%6Y?pf)z 场追迹结果（电磁场探测器） |8DMj s()* d*M:P jG@ ~8A !..Z
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ,Q7W))j *bOgR M[
 u3[A~V|0=
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