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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 3vXa#f>P<  
    ~ =GwNo_  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 1.0:  
    L"KKW c  
    MJ"@  
    o5B]?ekpq  
    建模任务 v6U Gr4  
    Q~R%|Q{&  
    k"3@ G?JY  
    概观 LZtO Q__B)  
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    ; ,Nvg6c  
    光线追迹仿真 )\KU:_l  
    bL`># M_^  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 a B$x(8pP@  
    e0<Wed  
    •点击Go！ q2 b>Z6!5  
    •获得3D光线追迹结果。 )O],$\u  
    23d*;ri5  
     $^e(?P q  
    |&"/u7^  
    光线追迹仿真 mxnu\@}(  
    Spu> ac  
    a[VX)w_W{  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 2BKiA[ ;;  
    •单击Go！ hG~HV{6  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     _z=yt t9D  
    J#IVu?B  
    XuoyB{U  
    L\hid /NL  
    场追迹仿真 { SF'YbY  
    *ESi~7;#  
    ,. zHG  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 \3&1iA9=)  
    •单击Go！     NR,R.N^[  
    oI5^.Dr FW  
    D GL=\  
    !hFzIp  
    场追迹结果（摄像机探测器） pocXQEg$]  
     \_(|$Dhq  
    \sAkKPI  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ]eUD3WUe>q  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]z!Df\I  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Mp QsM-iW  
    F}.R -j#  
    ]VR79l  
     [b+B"f6  
    场追迹结果（电磁场探测器） l)e6*sDZ,  
    |No9eZ8>.  
    jM-7  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     27i-B\r  
    O1@3V/.Wu  
     4k9$' k  
     
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