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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 <syMrXk)R(  
    A-\OB Nh  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 V`Z-m-V~1  
    [*U6L<JI  
     4l+"J:,  
    5" <7  
    建模任务 53d8AJ_@X  
    rvZXK<@#+  
    ${^WM}N  
    概观 OosxuAC(  
    'Z#8]YP`  
    /t`s.!k  
    光线追迹仿真 @K; 4'b~  
    4S>A}rWz  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 b: UTq 7^  
    !Mp.jE  
    •点击Go！ _,:gSDW|  
    •获得3D光线追迹结果。 ;^nN!KDjR  
    W'x/Kg,w-  
     A{mv[x-XN  
    ohqi4Y!j/~  
    光线追迹仿真 ]NS{q85  
    X(Gp3lG  
    >[;+QVr;  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 HV@ C@wmg  
    •单击Go！ ?zW4|0  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     6qQdTp{i  
    | T<t19  
    /1ZRjf^  
    L=4%MyZ.e  
    场追迹仿真 T9.3  
    9~i=Af@  
    5hwe ul>S  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {/SUfXq  
    •单击Go！     ]cvP !  
    SoX\S|}%6[  
    U_ELeW5@  
    ^6R?UG;6  
    场追迹结果（摄像机探测器） `R@1Sc<*|  
     z+IBy+  
    U^iNOMs?  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3oX\q/$  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 c \cPmj@  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 rw(EI,G  
    %O] ]La  
    j4h6p(w{  
     ,TL8`  
    场追迹结果（电磁场探测器） M?mPi 3  
    W]b>k lp;  
    PhTMXv<cE  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     <4r3ZV;'  
    *HiN:30DZ  
     IiW*'0H:/  
     
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