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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 598i^z{~0%  
    P2!C|SLK  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 \9d$@V  
    Q&&@v4L   
    WHI`/FM  
    "L1Zi.)  
    建模任务 z2c6T.1M  
    H"KCK6  
    ] - .aL  
    概观 mq[ug>  
    2tLJU  Z1  
    y]im Z4{/  
    光线追迹仿真 OZT.=^:A  
    {!`4iiF  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 "j-CZ\]U|  
    q;U,s)Uz^  
    •点击Go！ f5k6`7Vj]  
    •获得3D光线追迹结果。 nm+s{  
    8f7>?BUS,  
     ccnK#fn v  
    C>~TI,5a3  
    光线追迹仿真 OTp]Xe/  
    FqifriLN  
    ^(<f/C)i  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Y~Ifj,\  
    •单击Go！ ':}\4j&{E  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     jtc~DL  
    b2]Kx&!  
    `kr?j:g  
    &?vgP!d&M  
    场追迹仿真 l]cFqL p  
    W l1 6`9  
    e*!kZAf  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 |M_UQQAB|  
    •单击Go！     7rPF$ \#  
    h1{3njdr  
    fQ98(+6  
    H:G1BZjq  
    场追迹结果（摄像机探测器） >{Tm##@,k  
     Nluoqo ac  
    ?q&T$8zc4  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V$~9]*Wn  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 <ih[TtZ  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 aoTP [Bp  
    dTtSUA|V7"  
    b6M  
     }`"6aM   
    场追迹结果（电磁场探测器） <t,x RBk  
    4fzZ;2sl}  
    G\?YK.Y>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     c|1&lYal;  
    Q,9oKg  
     EzIGz[  
     
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