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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 w;Q;[:y  
    f<+ 4rHT  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 -(`OcGM'L  
    [Q\GxX.  
    H$af /^  
    5L:1A2Z?c  
    建模任务 zkTp`>9R  
    #j@71]GI  
    /h v4x9  
    概观 h25G/`  
    Ca%g_B0t  
    %Pksv}  
    光线追迹仿真 b{fQ|QD{^E  
    liR ?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _k^0m  
    [4fU+D2\d  
    •点击Go！ K1V#cB WO  
    •获得3D光线追迹结果。 _U;eN|Ww  
    [-&L8Un  
     tbnH,*  
    Kj=b[ e%  
    光线追迹仿真 y=Mq(c:'UN  
    bYz&P`o}  
    CG'.:` t  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9h/>QLx  
    •单击Go！ R<i38/ ~G  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     7iJ&6=/  
    mMMQ|ea  
    pZ#ap<|>I  
    IV lf=k  
    场追迹仿真 JbB}y'c4}=  
    I\qYkWg7  
    =)O,`.M.Y  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 RE.r4uOJg  
    •单击Go！     #YDr%>j  
    *m%]zj0bo  
    lnE+Au'  
    1<ro7A4hK  
    场追迹结果（摄像机探测器） PSawMPw  
     X7L8h'(@  
    (H oqR  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 k%y9aO  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 T32BnmB{  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [FUjnI  
    Th`skK&U  
    CE15pNss  
     h;5LgAY|v  
    场追迹结果（电磁场探测器） |^28\sm2e  
    G8W#<1LE  
    T]Nu)  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     iR$<$P5  
    &'l>rD^o  
     (;. AS  
     
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