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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 +@dgHDJ  
    p7Z/%~0v:  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 /0r6/ _5-.  
    7!JBF{,=  
    bd&Nf2  
    ok{ F=z  
    建模任务 }1|FES  
    jZ0/@zOf  
    &%4A3.qE  
    概观 m0N{%Mf-  
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    光线追迹仿真 {-51rAyi  
    3K%_wCZ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 `!C5"i8+i2  
    $s,(-C   
    •点击Go！ Hlz$@[$  
    •获得3D光线追迹结果。 $1n\jN  
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     @;Xa&*   
    ^-,@D+eW  
    光线追迹仿真 > QK"r7f/  
    Ph17(APt,Q  
    V82hk0*j  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 |3Bms d/3  
    •单击Go！ tJpK/"R'  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ' BY|7j~  
    S5e"}.]|  
    T&->xe f=  
    mA4]c   
    场追迹仿真 fz<GPw  
    u2cDSRrqT  
    hlGrnL  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 -_irkpdC[  
    •单击Go！     %18%T{|$e  
    vOU9[n N[  
    B>%;"OMp  
    7%5EBH &  
    场追迹结果（摄像机探测器） WNF#eM?[a  
     {Z#=ppvs  
    %(>,eee_  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 v8>bR|n5  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 2I{kLN1TY  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 |D1TSv}rZD  
    ;Mz7emt  
    kNoS% ?1,  
     %jxeh.B3B  
    场追迹结果（电磁场探测器） ?cB26Zrcb  
    <P#:dS%r  
    g])iU9)8  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     r?HbApV P  
    5?|yYQM0tK  
     B:(a?X-7  
     
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