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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 M?l v  
    d(IJ-qJ N  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 4cQP+n  
    b<FE   
    L<FXtBJ  
    $+j1^  
    建模任务 E &9<JS  
    dN5{W0_  
    wra0bS)4  
    概观 |d0ZB_ci  
    [!uzXVS3  
    tz ;3  
    光线追迹仿真 h,c*:  
    Kq[4I[+R  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #mV2VIX#Jv  
    W&5/1``u\  
    •点击Go！ ^J]&($-  
    •获得3D光线追迹结果。 ^N7H~CT"  
    m>=DJ{KQ  
     ^ ]9K>}  
    R-%6v2;ry  
    光线追迹仿真 :#:|:q.]  
    0?54 8yH  
    (MLcA\LJ  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }y6)d.  
    •单击Go！ *2 Pr1U  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     biHacm  
    <0d2{RQ;  
    M5{#!d}^D  
    +2`BZ}5y  
    场追迹仿真 TuQGF$n@  
    JuO47}i]5  
    I )mB]j  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 MtkU]XKGT  
    •单击Go！     9FDu{4:  
    4r(0+SO  
    C8K2F5c5  
    ^/BGOBK  
    场追迹结果（摄像机探测器） wPg/.N9H  
     CH6 m  
    >Y>R1b%  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 %,bD| NKp  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 * zp tbZ  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 `XxnQng  
    t@!n?j I  
    $Ivjcs:  
     vH+g*A0S<  
    场追迹结果（电磁场探测器） T^ktfg Xq  
    -;9 }P  
    IV,4BQ$  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     i}vJI}S.$  
    ujV{AF`JfB  
     r *K  
     
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