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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 C^7M>i  
    ca,U>'(y  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 `ZGKM>q`  
    z9JZV`dNgz  
    <uvA([r=Vq  
    *}=z^;_oq  
    建模任务 :Hj #1-U  
    |vgYi  
    qL~|bfN  
    概观 TnJJ& "~3b  
    2q ~y\fe  
    #Q$+AdY|  
    光线追迹仿真 =`.OKUAn  
    A>%mJ3M  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ? u~?:a@K  
    cBQ+`DXn5c  
    •点击Go！ XPT@ LM  
    •获得3D光线追迹结果。 f{)nxd >#  
    I 8VCR8q  
     6-QcHJ>m6U  
    6xoCB/]  
    光线追迹仿真 5G l:jRu  
    r>g5_"FL  
    0ni/!}YP_  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ahg]OWn#  
    •单击Go！ *H~&hs>k  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。      0X}0,  
    +^ `n- m  
    `_!R;f  
    n a+P|'6  
    场追迹仿真 gbziEjRe  
    1@xdzKua1  
    _*CbtQb5  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 G(gZL%M6  
    •单击Go！     >*WT[UU  
    Ca ?d8  
    T9bUt|  
    ,AwX7gx22  
    场追迹结果（摄像机探测器） T+41,  
     G{gc]7\=Cd  
    f0+vk'Z  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y=Om0=v  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ^y[- e9O|  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 w#{S=^`}  
    I-m Bj8^;  
    aole`PD,l  
     _kdt0Vr,L  
    场追迹结果（电磁场探测器） l<:\w.Gl  
    v (=E R%  
    =Y5_@}\0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     CTJwZY7  
    mX[J15  
     k,-0OoCL-!  
     
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