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摘要 ZlT }cA/n 1'kO{Ge*p: 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 =~D? K9o zp:dArh0
>p_W(u@ z$ H;Wrcf2 本用例展示了...... ?w3RqF@} •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: XlmX3RU - 矩形光栅界面 +C(-f - 过渡点列表界面 YEL0h0gn - 锯齿光栅界面 L*@`i ]jl - 正弦光栅界面 ?Oyo /?/ •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 %xt9k9=vZ > I2rj2M# 光栅工具箱初始化 -JW~_Q[ •初始化 fr17|#L+s - 开始 #mxOwvJ 光栅 @HT\Y%E 通用光栅光路图 ' \JE># •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, )M0YX?5AR 可直接选择特定的光路图。 asWk]jjMG :@A&HkF
~q$]iwwqT 8-Abg:) 光栅结构设置 S{c/3k~ •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 q<3nAE$?=
z.vQ1~s •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 =i/Df? •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 OO:S2-]Y>e B8&q$QV
j=WxtMS TI>5g(:3\ •例如,选择第一个界面上的堆栈。 Q(|@&83]. GQ2GcX(E( 堆栈编辑器 Xs03..S •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 c<lp<{; •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 m`yvZ4K! 3efOgP=L
"LBMpgpU #bOv}1,s 矩形光栅界面 g~lv/.CnA+ MZgaQU g •一种可能的界面是矩形光栅界面。 }:m#}s •此类界面适用于简单二元结构的配置。 ddn
IKkOp •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 9~SPoR/_0 •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 0.MB;gm: •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 -(vHy/Hz. P,v7twc0M
5 jrR]X ym;]3<I?I[ 矩形光栅界面 D8A+`W? •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 QiCia#_ •所选界面在视图中以红色突出显示。 ]_KWN$pd
vNO&0~ •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 TWP@\ BQ •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 RdCGK?s (,At5T •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 ;
476t •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 d i\.*7l? •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 35h|?eN_m! -l[H]BAMXy .k#PrT1C P`tOL#UeZL
I4Do$&9<D Y3~Uz#`SU 矩形光栅界面参数 7qC
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c •矩形光栅界面由以下参数定义 snbXAx1L - 狭缝宽度(绝对或相对) $tlBI:ay1 - 光栅周期 :ez76oGyc - 调制深度 Ey@^gHku\ •可以选择设置横向移位和旋转。 2;)IBvK :Drf]D(sMX
vJE=H9E \kE0h\ 高级选项和信息 vfSPgUB) •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 mnTF40l •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 Q Xd`P4a •可以设置总级次数或衰逝波级次数 N"9^A^w8k (evanescent orders)。 'o='Q)Dk •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 yQJ0",w3o. •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 "6,fIsU l;M,=ctB( yY]x''K F:zmO5L5 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 f2.=1)u. •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 f]*;O+8$LN •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 5;`Ot2 •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 :7{GOx FH</[7f;@N 6;E3|st1X ;CO qu#( 过渡点列表界面
b>5*G1 •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 `;mgJD •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 jHEP1rNHE •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 p39$V[*g( NSVE3 A6z2KVk 过渡点列表参数 E8C8kH] •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 + 149 o2 •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 F`KXG$ (-ELxshd <gPM/4$G 1_7p`Gxt[/ •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 taDe^Istj •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 =t N}4 •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 [C!*7h 6TRLHL~B
auI`'O`/ e;v7!X 高级选项及信息 .QY>@b\ •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 r?KRK?I 7<LuL
drpx"d[c
kNP-+o 正弦光栅界面 'qV lq5. •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 ESviWCh0Fl •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 [XPAI[" •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: X$<pt,}% - 脊的材料:基板的材料 oW
OR7)?r - 凹槽材料:光栅前面的材料 *BxU5)O vdXi'< .BjWZj 'oz$uvX 正弦光栅界面参数 a|TUH+| - 正弦光栅界面也由以下参数定义: sudh=_+> •光栅周期 6Takx%U •调制深度 }S"gZ6 - 可以选择设置横向移位和旋转。 |>P:R4P - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 N?3p,2 -Tvnd, hxdjmc- Ju5Dd\ 高级选项和信息 ZKW1HL ]m •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 5X8 i=M; 5%wA"_
u/k'
ry= ^G qO>1U 高级选项及信息 .NWsr*Tel •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 FoE}j
YS4"TOFw PL"=> 锯齿光栅界面 ((?"2 }1r •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 A|Ft:_Y •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 0rX%z$D+@ •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: ;=0-B&+v - 脊的材料:基板的材料 Q@p'nE, - 凹槽材料:光栅前面的材料 3Ch42< 3]iw3M
E*R-Dno_F n[BYBg1yG 锯齿光栅界面参数 lhQMR(w^ •锯齿光栅界面也由以下参数定义: "cS7E5-| - 光栅周期 D,$M$f1 - 调制深度 fx:vhEX •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 -~sW@u)O •可以选择设置横向移位和旋转。 >q')%j •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 2./z6jXW_ XiV*d06{ ']Czn._ O*2{V]Y
@ 高级选项和信息 (g dzgLHy •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 {OQ)Np! F" G+/c/L 探测器位置的注释 ]=3hH+1 a 关于探测器位置的注释 {y|.y~vW •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 H
O>3>v •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 Z3<lJk\Y •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 -0'<7FSQ •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 %U<lS.i •可以避免这些干涉效应的不良影响。 xhCNiYJ| l"&iSq!3=
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