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摘要 MC lvmv^  B,avI&7M;S Fpckb18}(O 本用例展示了...... Oq4J$/% •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如： ylPDM7Ka - 矩形光栅界面 pipqXe - 过渡点列表界面 6U[bAp - 锯齿光栅界面 9vw0box - 正弦光栅界面 JVt(!%K}& •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 >Qold7
M |n q}# 光栅工具箱初始化 0z r Zrl •初始化 .wJv_ - 开始 Y=tx
kN 光栅 ~CQT PR 通用光栅光路图 <imIgt|`2 •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， $Oi@B)=4d+ 可直接选择特定的光路图。 (|_N2R! 61=D&lb
 a534@U4, 9Netnzv% 光栅结构设置 /.<2I •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 Y=YIz>u
 zpM %L:S •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 9Bw.Ih[Z •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 ! C|VX,w
<j^bk"l p
 5f Dnr&DR
1:VbbOu->V •例如，选择第一个界面上的堆栈。 8nQjD<- \aB>Q"pS 堆栈编辑器 D0HLU
~o •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 K3On8 •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 rA6lyzJ /
+9o?Kxya
 LJ+Qe%|
wU1h(D2&h 矩形光栅界面 )MlT=k6S ;!H| 0sv •一种可能的界面是矩形光栅界面。 FatLc|[ •此类界面适用于简单二元结构的配置。 rXG?'jN •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 Kb5 Y A •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 $2lPUQZ<5 •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 4 1Ht sj
+?[,{WtV
 e SlZAdK -`< KjS 矩形光栅界面 k7\
,N o} •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 f9FLtdh
\7 •所选界面在视图中以红色突出显示。 '&n4 W7
 7 GVI={ b •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 Vp~c$y+ •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 i>}aQ:&^0  =vc8u&L2 •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 P}RewMJ$L •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 qT D^Vz
V •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 xhmrep6+< hEv}g  g7 r_jj%ow
k}h\RCy%f
 _0: }"!Gq GoTJm}[N P 矩形光栅界面参数 "0edk"hk •矩形光栅界面由以下参数定义 G378 ,H - 狭缝宽度（绝对或相对） {} gr\ - 光栅周期 QqU>V0y"w( - 调制深度 cN(Toj'` •可以选择设置横向移位和旋转。 a/v!W@Zz}
DLP
G
 U81--'@y
m }oqs0xx 高级选项和信息 g!*5@k|C •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 U'K{>"~1a •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 ?cRGdLP'D •可以设置总级次数或衰逝波级次数 yoc;`hO- （evanescent orders）。 /-v6jiM •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。 UBZ37P •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 q*E <~!jL *(>,\8OVf  S pqbr@j 8nSEAr~ •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 THl={,Rw` •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 2@~hELkk/E •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 d%wy@ h •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 o oW; s<6
bB->7.GXu  ?n0Z4 8% C ks;f6G 过渡点列表界面 =]swhF+l- •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 *@1(!A •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 $2gX!) •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 4
[K"e{W3  )5Nj wLs >nqCUhS 过渡点列表参数 {k"t`uo_ •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 4[VW~x07 •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 -\dcs? g;n6hXq4  BD.>aAi! vi1
D< •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 dvX[,*w z •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 "z6 xS; •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 n;+`%;6 K275{ydN
 nd4Z 5=X XTro;R=# 高级选项及信息 2.>a L •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 #q
mv(VB4 J \%SAit@
 ]I<w;.z
t3(~aH 正弦光栅界面 !-cK@>.pE •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 3[Xc:;+/ •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 s'4%ZE2Dr •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： -2/&i - 脊的材料：基板的材料 V<&^zIJUR - 凹槽材料：光栅前面的材料 RoLN# h; "pAE  z55g'+Kab =v:}{~M^$ 正弦光栅界面参数 %5yP^BL0 - 正弦光栅界面也由以下参数定义： s$D" •光栅周期 v i; yT. •调制深度 -%)S~ R - 可以选择设置横向移位和旋转。 =!N, {V_ - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 rf=oH
} 9@^N*
E+  yE_ T#FN F" | ; 高级选项和信息 Q u_ =K_W •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 0 H0U%x8
9cXL4
 K0'= O Z/e^G f#i 高级选项及信息 C1w6[f1+ •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 yW]>v>l:Eg oH"VrS 6  k!0vpps 锯齿光栅界面 l[K o> •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 <El!,UBq< •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 oE Jxey]B7 •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： ufB9\yl{~ - 脊的材料：基板的材料 UXPF"}S2 - 凹槽材料：光栅前面的材料 t3<HE_B | j*_>/gi
 ,X)/ T!ff d04f j/B
锯齿光栅界面参数 _T(77KLn; •锯齿光栅界面也由以下参数定义： _+ERX[i - 光栅周期 CuFlI?~8 z - 调制深度 Ch'e'EmI •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 :4x&B^,53 •可以选择设置横向移位和旋转。 ,8)aK y •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 V( =3K"j
d; g]OeF  ^%t {:\ 6 g)X&pZ 高级选项和信息 *t bgIW+h •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 xgJy G.?  G 7k.YtW 探测器位置的注释 }+fBJ$ 关于探测器位置的注释 $xK(bc'{ •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 F#Bi* YY •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 +:3p*x%1H •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 SN5Z@kK •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 F>U*Wy •可以避免这些干涉效应的不良影响。 'e*:eBoyb  mMtv a}=*
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