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摘要 "&Ff[O* rBS2>? 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 -P*xyI p/4S$
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\ bC}&Iz6 |9x%gUm 本用例展示了...... pNBa.4z: •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: Q{8qm<0g - 矩形光栅界面 !HvGlj@(| - 过渡点列表界面 OAY8,C=M - 锯齿光栅界面 8 `o{b"l+ - 正弦光栅界面 z6Fun •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 GU5W|bS O<bDU0s{M 光栅工具箱初始化 G1p43 •初始化 v<%]XHN - 开始 tb: 光栅 bD d_} 通用光栅光路图 /XjN%| •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, TJE%
U0Ln 可直接选择特定的光路图。 H
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b~1 'G52<sF 光栅结构设置 i+U@\:= •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 !+5C{Hs2
P_v0))n{ •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 VPdwSW[eM •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 hyM'x* _`slkwP.
#"|"cYi, ?VUgwP_= •例如,选择第一个界面上的堆栈。 ip<15;Z Ri9Kr 堆栈编辑器 5XI;<^n2 •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 U8EJC
.e&O •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 -*rHB&e lt&$8jh
/A0 [_ IkiQOk 矩形光栅界面 <>SR 4 sg+ZQDF{x •一种可能的界面是矩形光栅界面。 #,7eQaica •此类界面适用于简单二元结构的配置。 "[#@;{@Gt •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 bcUC4g\9N •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 ,LoMt ]H •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 E"G:K`Q @X3 gBGY)
bELIRM9 '.=Wk^,Ua 矩形光栅界面 X!HDj< •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 sM#!Xl; •所选界面在视图中以红色突出显示。 )>-77\
m(8jSGV •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 eo>/ •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 TP{>O%b YgO aZqN •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 #;wkr)) •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 LDT'FwMjy •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 IOSuaLH^ b`(yu.{Jn P%.`c?olbs <QYCo1_
HiQoRk = 4BLc 矩形光栅界面参数 t-.2+6"\ •矩形光栅界面由以下参数定义 R4&|t - 狭缝宽度(绝对或相对) Qw3a"k- - 光栅周期 V}vl2o - 调制深度 d9`3EP)n •可以选择设置横向移位和旋转。 3~cS}N T :5TXA
z*Myokhf H arFo 高级选项和信息 n@G:e-m{A •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 dH
^b)G4 •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 hEyX~f •可以设置总级次数或衰逝波级次数 Y{%4F%Oy (evanescent orders)。 UgF) J •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 ]&3s6{R •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 Zp/qs
z(] I
ybl;u e8~62O^ "7Toc4 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 aHBByH •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 W
/~||s •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 OvyB<r •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 [(D}%+2 *Gk<"pEeS 9s;!iDFn gp#bQ 过渡点列表界面 <Z\MZ&{k{* •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 '0'"k2"vC •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 }Q{
=:X9 •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 pl
jV|.? r6O7&Me< syWv'Y[k? 过渡点列表参数 SX_kr^# •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 %4|n-`: •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 (5f5P84x %0ll4" |x _-I#H /tI d#/Y •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 ;[WSf{k •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 sx;V,"Y •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 'T&=$9g7 ~aauW?
q5?rp|7D c~^]jqid] 高级选项及信息 Q70**qm •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 +LQs.* ;qMnO_E
VurP1@e& SU_]C+ 正弦光栅界面 'gk81@| •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 3]:p!Y`$ •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 DWm;&RPJ •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: =u:6b} = - 脊的材料:基板的材料 'y+bx?3Z - 凹槽材料:光栅前面的材料 /VhE<}OtH ~n8*@9[ }C`}wS3i 3zA8pI w 正弦光栅界面参数 8ACYuN\ - 正弦光栅界面也由以下参数定义: ^H\-3/si* •光栅周期 RAv RNd •调制深度 % L %1g - 可以选择设置横向移位和旋转。 '1kj:Np - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 XoH[MJC 0w'y#U)&8 | `)V^e_ n&3iv^ 高级选项和信息 'n>3`1E, •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 .qqb>7|q RIVL 0Ig
[FAOp@7W `:bvuc( 高级选项及信息 5uD#=/oV •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 L?D~~Jb |`94W j< .J1Hg 锯齿光栅界面 X#Dhk6 •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 {>UMw>T[ •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 Vhbj.eX.) •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: giSG 6'WA - 脊的材料:基板的材料 bWC~Hv - 凹槽材料:光栅前面的材料 y
8d`}, <R`,zE@t'(
FSYjp{z5 PG v}fEH" 锯齿光栅界面参数 Z@.ol Y •锯齿光栅界面也由以下参数定义: %)6:eIS - 光栅周期 BJO~$/R?v - 调制深度 :AqnWy •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 g]@R'2:1 •可以选择设置横向移位和旋转。 2=/g~rp* •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 Kz3h]/A. S]K6qY ;qVEI/ vVAZSR# 高级选项和信息 |q!2i •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 M#lVPXS *p#YK| 探测器位置的注释 a9@l8{)RX 关于探测器位置的注释 sNk>0 X[ •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 Y(I*%=:$ •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 J\dhi{0 •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 WJFTy+bD •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 $ Pb[c%' •可以避免这些干涉效应的不良影响。 H'= i .J6j"
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