&<BBPn@\ 1. 建模任务 ls^Z"9P 1.1
模拟条件
1RYrUg"s" 模拟区域:0~10
\N*([{X 边界条件:Periodic
4=([v;fc 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
2F:qaz 单位长度:0.5
CLrX!JV>
#{q.s[g*+1 T?pS2I~ 1.2堆栈
结构 W\~^*ny
P6 Ik0g(-d 2. 建模过程 $ZBYOA 2.1设置模拟条件
90<g=B
;t{q]"? W 10FiA; 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 -eG~ ,0W^"f.g{m ^<CVQ8R7 2.3创建掩膜并生成多畴结构
'ZuS .HS6DOQ 3. 结果分析 FOXSs8"c]! 3.1 指向矢分布和透过率
XDemdMy$ k8w\d+!v 1hG# 3.2所有畴的V-T曲线
y@3p5o9lv- =8\.fp X2|~(* 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
I%3[aBz4