F"O{eK0T 1. 建模任务 ~2xC.DF_N 1.1
模拟条件
Ui6f>0? 模拟区域:0~10
mQt';|X@ 边界条件:Periodic
T.kmoLlH 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
wCiDvHF5+C 单位长度:0.5
(p<QRb:&Z
]_NN,m>z l1^/Q~u 1.2堆栈
结构 XWvT(+J J_tj9+r^ 2. 建模过程 eCB(!Y| 2.1设置模拟条件
%=x|.e@J
*<*{gO?Q4 O[Xl*9P 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 usiv`.
Dt,b\6 }^uUw& 2.3创建掩膜并生成多畴结构
E@\e37e @xR7>-$0p 3. 结果分析 WrhC
q6 3.1 指向矢分布和透过率
6'y+Ev$9 Xv3u}nPMq ?Dro)fH1 3.2所有畴的V-T曲线
,2mnjq/*Z z'a#lA.$} }B2H)dG^K 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
PbOLN$hP