?0d#O_la3 1. 建模任务 /9ZU_y4&3f 1.1
模拟条件
`cFNO: 模拟区域:0~10
^= qL[S6/M 边界条件:Periodic
FD8d-G 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
nYTPcT4x| 单位长度:0.5
!!)NER-dv
X(;WY^i! @,q <CF@Y 1.2堆栈
结构 M
~6$kT T=[/x= 2. 建模过程 pvdCiYo1r 2.1设置模拟条件
1+Q@RiW
K#x|/b'5d kq>I?wg 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 \|
'Yuh *dxE
( dP Z1U@xQj 2.3创建掩膜并生成多畴结构
($,qxPOn $g
}aH(vf 3. 结果分析
[$`%ve 3.1 指向矢分布和透过率
L1QDA}6?_Y qy/t<2' dlioa Yc 3.2所有畴的V-T曲线
O-n JuZJgX =F46v{la rb]?"lizi 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
^(Wu$\SA