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摘要 \wM8I-f! . g8db d 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ,]H2F']4Z
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PCs`aVZ 建模任务 4ztU) 1 Gz kvj:(V  "?r_ A*U 概述 y41, T&ja X3Yi|dyn T •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 u)9YRM l •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Y
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> k )=5 ,S~IT
 ^j *H .Hm1ispq 光线追迹仿真 -a`P W Y@ 2v/O,\ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =l+~}/7'Z •单击go！ j:P(,M[ •获得了3D光线追迹结果。 [|tl Tk QUK v :;
 <}( 'w / "pTU&H e 光线追迹仿真 qj1Fj v0u, :eZ4 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 c$b~? Mx •单击go！ |h^] `= 3 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 f < pJ_ ]CGH )4Pe
 mJ JF JN> h: 场追迹仿真 6S&OE k |<!xD
iB •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 0@/C 5 v •单击go！ mIah[~G }II)<g'  l9vJ]
,&iZ*6=X?0 场追迹仿真（相机探测器） P]<15 l nXAGwU8a •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 sj8lvI Y5 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 O~4Q :#^c :b"&Rc&s.
 NN] 8T vE C#W43l 场追迹仿真（电磁场探测器） OCv,EZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8T}Dn\f fir#5,*q|  Xz\ X 8I
FJ{6_=@D 场追迹仿真（电磁场探测器） I]6,hygs
gVI T 6"/ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 d: JP935 fR#W#n#m
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