一．概述
Eb&=$4c= 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
\h }sA k]c$SzJ> / 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
;|, *zD =+ 4om* 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
; Yt'$D*CP _Q*,~ z~ 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
) '/xNR 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
*"V) h I5 +WCV"m SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
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V*]g/; =s:Z-*vy! 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
*b`1+~p_2 wk2Ff*& 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
4=njM`8Y' 8wCB}q C +[V.yY/t|> 三．反射式光刻物镜优化结果
N8*QAe kN 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
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3g 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
|-]'~ @~ #_'^oGz` .aC/ g?U 对应镜头文件可以评论区留言领取
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/+[G 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
rL/H{.@$` dlDO?T 畸变在1.6%
v|rBOv R E9 `T xE6hE'rh.O MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
?V =#x.9 WFfn:WSWU qKI)*o062 RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
'Z6x\p 1(WBvAPS g7v(g? 波前图
Yo}QW;,g x.q "FXu }u;`k'J@ 点列图
q]Af I( tf>"fU\P 3
5p) e c _rW75n=3b7 5M#L O@U 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
