一．概述
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n%k. 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
+$/NTUOP d P]Z: 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
zN-Y =-c ?`6Mfpvj96 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
Vf=,@7 7 _lgo6 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
|t;K tl 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
T]b&[?p|a[ z=8l@&hYLq SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
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< Uv=)y^H~*A 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
q^<;B Y rhGB l`(B 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
`FX?P`\@I N4{g[[ T Qp2~ `hD 三．反射式光刻物镜优化结果
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,r*xt 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
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P [[]NnWJ 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
dwiLu& ]u h96<9L <7/ 7+_y 对应镜头文件可以评论区留言领取
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Yskc DQ0 UY .cmhi3o4 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
yWr &G@>G yHZ&5 畸变在1.6%
pF}E`U=Z Vn_>c#B oDG BC MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
dKw[#(m5v aghlYcPg HPo><u RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
]J/ ;Xp 4e?c W& 2<V` 波前图
|t#s h i"E_nN" V QPvWdjf#mM 点列图
c wQ *P$n '}F9f? \fYPz }wt y C!>7@m 2{ g&9 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
