一．概述
]Er$*7f 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
v mk2{f ,g nZYBE03 0 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
</*6wpN kM N~Y 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
4@a i6,< gc$l^`+M 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
U&p${IcEm 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
2g! +<YZ~ 61'XgkacDS SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
=Jb>x#Y H"Wp rHe 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
P\k# >}} zIAD9mQex 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
E hMNap}5" $*fMR,~t& s!$7(Q86R 三．反射式光刻物镜优化结果
20Wg=p9L 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
7zG_(83)K {3aua:q 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
YNi.SXH 2[0 2,FG f%}xO+ .s 对应镜头文件可以评论区留言领取
A~ 70 h~zT ydnH @~a%/GQ#n* r_A$DaC] 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
II,8O b OY |H~ 畸变在1.6%
qlPT Ll EXqE ~afm2 f ) L MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
$f7l34Sf3 t*w/{|yO .% RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
&Au@S $ij I%KYtv~ ` b4N[)%@ 波前图
IW] rb/H CRy|kkT :^h$AWR^f 点列图
d8P^lv*rQW "VMz]ybi^ jAlv`uB|G" AH~ E )S O?#7N[7 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
