一．概述
&>Zm gz 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
C(N' +VV_ 3<Qe'd
^ 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
AT@m_d l| WdJn
o
全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
|qUi9#NUo wm1`<r^M. 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
Y~ku ?/"6T 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
!e>+ O^ M8_f{|!& SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
{J#SpG 7 T 'VZ=l[ 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
Kkfz a dJvT2s.t[ 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
?w^MnK0U) q<Tx'Y a zG
IxmJ. 三．反射式光刻物镜优化结果
ZLP)i;A z 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
D\13fjjHlu Oy(f h%k# 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
3C[#_&_l SX/ E@vYb =&%}p[
3g 对应镜头文件可以评论区留言领取
R y47Fze ??Lda=' .wH`9aq;5@ _E\Cm 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
}4Q~ <2 |DUWB; 畸变在1.6%
c{"=p8 F_ 8Pb ~`E/ 7~zd
%
o
MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
+ 8xC%eE j\hI, mc P y@/\V RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
P/!W']OO ;!~ &-I0l 19h@fA[: 波前图
\\R$C }Qu k n gT-"=AsxZQ 点列图
?)-#\z=6G ]z77hcjB1 0jJ:WPR {sOW DM5 W1;QPdz: 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
