一．概述
J>dj] 1I 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
=SJ[)| @uC- dXA" 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
L ,_U co a:|]F| 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
Q9y|1Wg1W NO*~C',cI/ 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
9^S rOW6~ 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
Yp m*or J'cE@(US SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
.f!'> _ 'PMzm/;8st 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
KI< x`b lItr*,A] 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
|RpZr!3V F`Vp \mN?5QCcE 三．反射式光刻物镜优化结果
oQy Ms> g 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
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E 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
KJ?/]oLr0 ^<yM0'0t 'iYaA-9j 对应镜头文件可以评论区留言领取
K6<1& r'}#usB( LY0/\ Z"N t[%=[pJHW 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
RkdAzv!Y7 /? j^Qu 畸变在1.6%
>fR#U"KPAB 0@f7`D *7Sg8\wDn MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
'9wD +'c=A `.6Jgf u ,@gDY9Q3r/ RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
b!37:V\#} L3Q1az !Ct ,KibP_<%&P 波前图
kLY9#p=X zGFW?|o< Y@%6*uTLa 点列图
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x?cc dR /UXzrc B<'V7#L_ w1A&p 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
