一．概述
B2845~\. 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
HowlJ[ km% ^1*p ]j( 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
1"v;w!uh ,pL esbI 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
5.GB d _; []dRDe;# 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
^+GN8L Us 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
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9TuBO 'kx{0J? SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
fcw \`. zcxG%? Q 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
Ym F`7W E+~~d6nB 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
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^eZqsd8 a 三．反射式光刻物镜优化结果
%+pX zw` B 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
6PPvf D^ X0!48fL* 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
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rtzxMCSEU 对应镜头文件可以评论区留言领取
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V). M\
l;|1C[V 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
_@^msyoq MaMs( 畸变在1.6%
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~?L. n:wu MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
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lT(MywNsg RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
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l[.pI];T 波前图
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M~"K@g=Wr 点列图
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t;4{l`dk 3ea6g5kX 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
