一．概述
) 5p0 fw 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
|r6<DEg e6,/ i 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
Xul<,U~w6 v=@Z,- 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
29}(l#S}m =C u ! 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
IhY[c/ |i 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
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/]u72?rP SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
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^{u 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
MejM(o_kk T =_Hd 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
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D O#4E<]5 三．反射式光刻物镜优化结果
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93g 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
K+2<{qwh e G =Hyc 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
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e@w-4G(; 对应镜头文件可以评论区留言领取
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lN - vFna 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
v[A)r]"j"M s< h]2W 畸变在1.6%
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.}=gr+<bf MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
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Gx,<|v RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
e5W 8YNA xU6)~ae`JW
At3> 波前图
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i Glg@ 点列图
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CC"}aV5
R6eKI,y\" mmRxs1 0$ 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
