一．概述
2f -Or/v 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
QOF'SEq"k 0 f"M-x 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
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nh]N Cd7d-'EQn 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
&44?k: +;;pM[U 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
GJuU?h#:/{ 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
PFeK ;`[ _]=, U.a=/ SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
. J*2J(T, ~ 9+\ 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
'MIM_m)H HC ?XNR& 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
W-ECmw( GP}+c8|2
HLM"dmI 三．反射式光刻物镜优化结果
/?QBMI 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
4:v{\R 3Kum 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
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HnfTj 5J@ 对应镜头文件可以评论区留言领取
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Oe 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
6T~xjAuJ3T %5H>tG`] 畸变在1.6%
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@;z}Hk0A MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
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L RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
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T/C1x9=? 波前图
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\6${Na' \ 点列图
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FeFH_ ?wx|n_3<: 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
