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f{? hk$nlc|$ 内容简介 `bi_)i6Low Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
EV7+u0uN&Q 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
G'}_ZUy# 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
)i6U$,] 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
PK`(qK9 ^%OH}Z `ly 目录 |Nd.'|g, Preface 1
VV}fW"_ND 内容简介 2
4oaP"T@6 目录 i
,"MUfZ 1 引言 1
\3:{LOr%* 2 光学薄膜基础 2
Y"\T*lKa 2.1 一般规则 2
6~Oje>w; 2.2 正交入射规则 3
@XG`D>%k 2.3 斜入射规则 6
yI|?iBc7nC 2.4 精确计算 7
[\M?8R$) 2.5 相干性 8
AU?YZEAei 2.6 参考文献 10
R^O)fL 0_ 3 Essential Macleod的快速预览 10
}Yl8Q>t 4 Essential Macleod的特点 32
.STf 4.1 容量和局限性 33
[N$_@[ 4.2 程序在哪里? 33
ORPl^n- 4.3 数据文件 35
,c %gwzU 4.4 设计规则 35
0v)mgrl=, 4.5 材料数据库和
资料库 37
fD}]Mi:V 4.5.1材料损失 38
_TcQ12H 5< 4.5.1材料数据库和导入材料 39
IEsD= 4.5.2 材料库 41
P :h4 4.5.3导出材料数据 43
Ly/~N/<\ 4.6 常用单位 43
iU+,Jeu 4.7 插值和外推法 46
_nFvM'`< 4.8 材料数据的平滑 50
r_<i*l. 4.9 更多光学常数模型 54
sL`D}_: 4.10 文档的一般编辑规则 55
/Ta0}Y(y 4.11 撤销和重做 56
Ecl7=-y 4.12 设计文档 57
5OqsnL_V 4.10.1 公式 58
3bL2fsn5 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
o>rlrqr?_ 4.10.3 沉积密度 59
8uD%]k=#! 4.10.4 平行和楔形介质 60
oW1olmpp= 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
eS%6hUb 4.10.4 性能 61
w]YyU5rhS 4.10.5 保存设计和性能 64
CpdY)SMSL 4.10.6 默认设计 64
*8eh%3_$h 4.11 图表 64
_q4dgi z 4.11.1 合并曲线图 67
_^sSI<&m 4.11.2 自适应绘制 68
=<uz'\Ytv% 4.11.3 动态绘图 68
Y0C<b*!"ST 4.11.4 3D绘图 69
NP`ll0s 4.12 导入和导出 73
T
]nR
XW$ 4.12.1 剪贴板 73
%.gjBI= 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
s+G9L)b' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
@%85k/( 4.13 背景 77
2Sd6b 2- 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
]1$AAmQH 4.15 生成Rugate 84
DQXx}%Px 4.16 参考文献 91
U1tPw`0h 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
t7%Bv+Uo 5.1 Jobs 92
tD482Sb= 5.2 创建一个新Job(工作) 93
X"59`Yh 5.3 输入材料 94
@!HMd{r 5.4 设计数据文件夹 95
ptL}F~ 5.5 默认设计 95
APm[)vw#f 6 细化和合成 97
J3E:r_+ 6.1 优化介绍 97
`,=p\g|D 6.2 细化 (Refinement) 98
(D3m5fO 6.3 合成 (Synthesis) 100
4KB?g7_* 6.4 目标和评价函数 101
HpSfI7 6.4.1 目标输入 102
NGGd6V%'- 6.4.2 目标 103
EB<tX`Wp 6.4.3 特殊的评价函数 104
MNE)<vw> 6.5 层锁定和连接 104
62E(=l 6.6 细化技术 104
Q*o4zW 6.6.1 单纯形 105
Lh$ac-Ct 6.6.1.1 单纯形
参数 106
0n^j 50Yq 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
O3GaxM\x 6.6.2.1 Optimac参数 108
<xz-7EqbwX 6.6.3 模拟退火算法 109
vv_?ip:t 6.6.3.1
模拟退火参数 109
\zDV|n~{w 6.6.4 共轭梯度 111
m5g: Q 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
)Em,3I/.l 6.6.5 拟牛顿法 112
HYa!$P3}[ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
7-B'G/PS/ 6.6.6 针合成 113
S8<aq P 6.6.6.1 针合成参数 114
W]]2Uo. 6.6.7 差分进化 114
YH$`r6\S 6.6.8非局部细化 115
l'R`XGT 6.6.8.1非局部细化参数 115
nXW1 : 6.7 我应该使用哪种技术? 116
*Y?]="8c#; 6.7.1 细化 116
lK@r?w|<M 6.7.2 合成 117
Kwau:_B 6.8 参考文献 117
hZG{"O!2s 7 导纳图及其他工具 118
t":>O0>cz 7.1 简介 118
Z)~4)71Y: 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
0+h?Bk 7.2.1 四分之一
波长规则 119
Pk2"\y@q/ 7.2.2 导纳图 120
@35]IxD 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
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