ka655O/)& Hq OzArp3 内容简介 sdrALl;w| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
%kUIIHV} 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
I;9>$?t[ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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2015年9月3日
K^>+" BTqY_9 目录 ;V@o 2a Preface 1
><+wH b 内容简介 2
R0vWj9nPh 目录 i
YFeF(k!!n 1 引言 1
w\!aKeP'
2 光学薄膜基础 2
rz5AIe>Hm 2.1 一般规则 2
,iV|^]X3$/ 2.2 正交入射规则 3
r1f## 2.3 斜入射规则 6
NvY%sx, 2.4 精确计算 7
qq
G24**9v 2.5 相干性 8
p{gJVP#l'Z 2.6 参考文献 10
63 F@Ft 3 Essential Macleod的快速预览 10
#fd;] 4 Essential Macleod的特点 32
[5yLg 4.1 容量和局限性 33
f!AcBfaLr 4.2 程序在哪里? 33
{94qsVxQZ 4.3 数据文件 35
}Ndknut, 4.4 设计规则 35
]y:2OP 4.5 材料数据库和
资料库 37
c"~+Y2]tL 4.5.1材料损失 38
4-1=1)c* 4.5.1材料数据库和导入材料 39
7M9Ey29f 4.5.2 材料库 41
yL{X}:;} 4.5.3导出材料数据 43
(Rj'd>%c 4.6 常用单位 43
yy8h8{=g 4.7 插值和外推法 46
'W(!N%u 4.8 材料数据的平滑 50
8cI<~|4_ 4.9 更多光学常数模型 54
XnR9/t 4.10 文档的一般编辑规则 55
EdR1W~JZ 4.11 撤销和重做 56
#l2KJ7AMK 4.12 设计文档 57
+es|0;Z4yP 4.10.1 公式 58
xvU@,bzz 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
/{il;/Vj 4.10.3 沉积密度 59
?>
)(;Ir9 4.10.4 平行和楔形介质 60
3
vr T` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
6ZKSet8 4.10.4 性能 61
^26vP7 4.10.5 保存设计和性能 64
kzozjh%`9h 4.10.6 默认设计 64
Q6%dM'fR 4.11 图表 64
NpqK+GO 4.11.1 合并曲线图 67
{-a8^IK, 4.11.2 自适应绘制 68
3M~*4 4.11.3 动态绘图 68
_=$:<wIE[ 4.11.4 3D绘图 69
?y"=jn 4.12 导入和导出 73
H.-VfROi2 4.12.1 剪贴板 73
GE?M. '!{{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
`?P)RS30 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
4}&$s 4.13 背景 77
n3x<L:) 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
)a99@`L\P 4.15 生成Rugate 84
'z\$.L 4.16 参考文献 91
}*Z *wC 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
z"D'rHxy 5.1 Jobs 92
s&.VU|=VQ@ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
!I)wI~XF)5 5.3 输入材料 94
3pU/Zbb,: 5.4 设计数据文件夹 95
KcPI,.4{ 5.5 默认设计 95
:^bjn3b 6 细化和合成 97
!N"Y 6.1 优化介绍 97
Ynxzkm S 6.2 细化 (Refinement) 98
JA!?vs 6.3 合成 (Synthesis) 100
e:`d)GE 6.4 目标和评价函数 101
$e#V^dph 6.4.1 目标输入 102
)+L.$h 6.4.2 目标 103
MVDEVq0 6.4.3 特殊的评价函数 104
5-[bd I 6.5 层锁定和连接 104
.0=VQU 6.6 细化技术 104
^t0Yh%V7 6.6.1 单纯形 105
~3'}^V\ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
'jnR<>N 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
$*-UY 6.6.2.1 Optimac参数 108
&GKtD) 6.6.3 模拟退火算法 109
A*x3O%zH 6.6.3.1
模拟退火参数 109
Ng,<4; 6.6.4 共轭梯度 111
CQ;.}=j
, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
J!+)v 6.6.5 拟牛顿法 112
{)KH% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
QY7Thnp1 6.6.6 针合成 113
QtSJ9;eP 6.6.6.1 针合成参数 114
N$I@]PL 6.6.7 差分进化 114
JnodDH ? 6.6.8非局部细化 115
5yl[#>qt 6.6.8.1非局部细化参数 115
e<Bwduy 6.7 我应该使用哪种技术? 116
A,fP l R 6.7.1 细化 116
|K(jXZ) 6.7.2 合成 117
f?Am) 6.8 参考文献 117
9jkaEn>m^ 7 导纳图及其他工具 118
:@oy5zib 7.1 简介 118
8
o^ h\9I 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
hH.X_X?d% 7.2.1 四分之一
波长规则 119
IVY{N/ 3| 7.2.2 导纳图 120
'O:QS) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
$-*E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
D}i_#-^MH 7.5 斜入射导纳图 141
(U?*Z/ 7.6 对称周期 141
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