摘要 qwu++9BM {_1^ GIIS 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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e 建模任务:专利WO2018/178626 n*^g^gp p;:tzH\l
2B_6un];W ^CTgo,uf6H 任务描述 TR rO- mD:d,,~
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*; 光波导元件 Eo\#*Cv* pr\yc 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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Dn _D6H V-CPq 光波导结构 Tk9*@kqv %*<k5#Yq 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
J={$q1@lq L1`^~m|
??{ (.`}R~ j4le../N 光栅#1:一维倾斜周期光栅 Q{!lLka
U KF/v 几何布局展示了2个光栅:
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?rWqFM:hb •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
*9%<}z •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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UuAn`oYhV zzuDI_,/ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 F8YD: OekcU%C 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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&6,GX7]Fo dW<. 可用
参数:
DTN @b! •周期:400纳米
*(L4rK\2 •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
b,7:=-D •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
GY<Y, •倾斜角度:40º
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oScHmGFv ]1%H.pF 总结—元件 K8{j oh \,[Qg#W$u 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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W!I"rdo;V z]Z>+| 可用参数:
%B3E9<9>U •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
X.,SXNS+B •调制深度:100nm
d#I'9O0& •填充系数:65%
17H_>a\` •菱形网格的角度:30°
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M\,0<{ y .S0^ 总结——元件 9fvy)kX;s (p68Qe%OuG
Hy|$7]1 ~m[^|w
,y,NVF HV&N(;@ 结果:系统中的光线 (E&}SI~ it5].A&
]XJpy-U 0fXdE ;M3 结果:
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< L/<^uO1 结果:场追迹 el.;T*Wn KKa"Ba$g
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