摘要 "y,YC M` Sw\*$g] 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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d9#Vq=H / !Qe;oMqy} 建模任务:专利WO2018/178626 "6$V1B0KW ?m
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a /sj W uZS : 任务描述 ^dHQ<L3.* mll:rWC)
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2&@@< 光波导元件 ~#A}=,4> 8Xotly 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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gR h:YD$XE 光波导结构 AK2Gm-hHK Wwq:\C 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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_FY&XL= ^Xk!wJ 光栅#1:一维倾斜周期光栅 ~RhUg~o Ts5)r( 几何布局展示了2个光栅:
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8M,*w6P •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
rs&]46i/p •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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tIsWPt]Y w,LtQhQ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 :Ha/^cC/3 z M9#1^X 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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(#Y~z',I 0#,a#P 可用
参数:
[GLH8R •周期:400纳米
22`^Rsb,6L •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
Xz+%Ym •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
RLmOg{L •倾斜角度:40º
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4CNrIF@ LW %AZkAx 总结—元件 |Wh3a# BuJo W@) 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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Z
bz4Gzp'6k 1^~&"s U 可用参数:
U<Pjn)M~B •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
~wvt:E,fC •调制深度:100nm
*;7y5ZJ •填充系数:65%
( ;FxKm<P@ •菱形网格的角度:30°
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d <Vat@e 总结——元件 2w?q7N% |.<_$[v[x
`+7F H SQp|
P*|N)S)X% xEb>6+-F@ 结果:系统中的光线 LU1I
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th?+TNb^ =o@;K~- 结果:
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t/AAk6 oV|O`n
iHa?b2=) o+A7hBM^ 结果:场追迹 Ox3=1M0 &5CRXf
|{(<A4W ]33!obM VirtualLab Fusion技术 BI'>\hX/V AjzTszByu