摘要 y{`aM(& clcj5=: 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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e@GR[0~ On^jHqLaE 建模任务:专利WO2018/178626 YXBU9T{r <]/z45?
mHnHB.OL z;74(5?q 任务描述 l$:.bwXXO #hNp1y2
Rzolue 8 Ga%x(1U[& 光波导元件 gA&+<SK( /{j") 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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n1Y3b~E?E T\Zq/Z\ 光波导结构 y'a(>s( @
k`^Z5tN 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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`D#3 :=0XT`iY 光栅#1:一维倾斜周期光栅 5:=ECtKi K~?M?sa 几何布局展示了2个光栅:
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@k ~_ w# •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
GmA5E •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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V&'
:S{i Gob;dku 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 ^w+jPT-n L
1fK 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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s 4Mi9h_ ""dX4^gtU 可用
参数:
K-xmLEu •周期:400纳米
6iozb~!Rr •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
UacGq, •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
;T|y^D •倾斜角度:40º
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@;-6qZ eBK s-2r 总结—元件 <z>K{:+> i>Cxi ZT 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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9"@P.8_ yqg&dq 可用参数:
C~2/ 5 •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
>PsP y. •调制深度:100nm
"4{_amgm&< •填充系数:65%
(okCZ-_Jn •菱形网格的角度:30°
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6zQ {Y"0 3X+uJb2 总结——元件 !lSxBr[dQ "EoC7
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L`i#yXR C?n3J 结果:系统中的光线 '~-Lxvf' iL-I#"qT,
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]Q\Ogfjp LzEAA{ 结果:场追迹 7Q<uk[d0 Yx_[vLm
q8:Z.<%8 :E|HP#iwu VirtualLab Fusion技术 \?,'i/c- 9Z0(e!b4S