摘要 |HU
qqlf u}rot+)% 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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B6X 建模任务:专利WO2018/178626 :^s7#4%6 bSR<d
b c4x"]! (p?3#|^ 任务描述 < t (Pw ~76.S
?xo,)`` @r]s9~Lx9 光波导元件 yki
k4MeB 5muW*7 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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M$W#Q\<*#r .fsk DW 光波导结构 5>@uEebkv] I:_*8el&d 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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?iLd5 Z ]18ygqt 光栅#1:一维倾斜周期光栅 -h@0 1 H/3Zdj 9 几何布局展示了2个光栅:
QP[a^5;Tt pG( knu
@Y<tH,* •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
KYu(H[a •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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M&ij[%i Vrj1$NL% 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 euhZ4+ 8-"5|pNc 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
'^l^gW/|\ B-~&6D,
D' `"_ kxW>Da<6 可用
参数:
l>UUaf|O •周期:400纳米
e^NEj1 •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
eM+;x\jo? •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
D w=Z_+J •倾斜角度:40º
H 1D;:n ?GNF=#=M
z>33O5U "-n%874IT 总结—元件 EO&ACG H~|%vjH 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
eqZ+no nbASpa(
)c*k_/4 !e'0jf-~ 可用参数:
egvy#2b@ •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
UY-IHz;&O- •调制深度:100nm
fHd!/%iG •填充系数:65%
;hA7<loY •菱形网格的角度:30°
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6#)Jl MpA;cw]cI/ 总结——元件 uUz`= 4%A N
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. 结果:系统中的光线 %x6Ov\s2 %md^S
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