摘要 7sVM[lr< 05F/&+V 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、
偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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-1r$. WD4"ft 建模任务：专利WO2018/178626 zd_N' :6 1n8y4k) 
PE{<' K\g C.4(8~Y=~ 任务描述 wQW` Er3w Bc!<!
D*UxPm"pw G=qlE?j`j 光波导元件 pg5W`4-F M8lw;
( 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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W,8Uu 1X = f)vnm*&- 光波导结构 Ft;x@!h % t <Sa ;[+ 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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&SIf |IX. 7 @\ i5 光栅#1:一维倾斜周期光栅 / 8O=3 8XV RRk 几何布局展示了2个光栅：
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'xd8rN %T •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
h_-4Q"fb( •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
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!,$K;L (Jb#'(~a 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 aF/DFaiYv V+D <626o 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
o(}%b8 K t=eI*M+>h 
Lapeh>1T XX-(>B0L 可用
参数：
|FFz $'8) •周期：400纳米
ZxO o&YR3 •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
"+2C s •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
;t>4VA •倾斜角度：40º
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KKQT?/ {b |L *=\%t8 总结—元件 tvn o3" mUl0D0# 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
M8:i ] lA4-ZQ2Zp[ 
>r X$E<B\ =x?WZMO 可用参数：
.[eC w •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
S/*\j7cj •调制深度：100nm
IkmEctAU •填充系数：65%
@=z.^I30 •菱形网格的角度：30°
h+Lpj^<2a ^?]-Q*w3Qs 
q%M~gp1 P )oNNY6} 总结——元件 AJ}m2EH zrSYLG 
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yX*$PNL5w /
j "}e_Q 结果：系统中的光线 [QM N0#(h '+l"zK ]L- 
e[Vk+Te7 C(h<s
e? 结果：
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,j{tGj_ uDJ;GD[yc 结果：场追迹 A#K<5%U{Mv 5| jY 
ab9ec Z `z q+Xl VirtualLab Fusion技术 ^B%ki gREk,4DAv 
