摘要 YcQ$nZAU (rKyX:Vsy 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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z!YaOL 建模任务:专利WO2018/178626 r]q;>\T' d]A.=NAc
rR Kbs@1M EPEWyGw 任务描述 wnioIpRkh ~7p!t%;$
{F!/\2a 1G}f83yR 光波导元件 0Q7teXRM 7e NLs
使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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}Um #|PPkg%v< 光波导结构 WCNycH+1 rn$G.SMgz 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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]z5k YU& 光栅#1:一维倾斜周期光栅 jJY{np Hs:0j$ 几何布局展示了2个光栅:
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Y-b,& •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
Ux,?\Vd •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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>&DC[)28 3S 5`I9I 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 zRU9Q2Y lRk_<A 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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XF&_**0n eo@kn yA<& 可用
参数:
z!M # •周期:400纳米
hW!2C6 •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
M7[GwA[Z
+ •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
t$Bu<frQ •倾斜角度:40º
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ZaBmH|k C'y4 ~7 总结—元件 7|HIl= _/czH<
具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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J9*i`8kU. qfkdQ/fP 可用参数:
"{S6iH)]8 •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
y>#_LhTX- •调制深度:100nm
\.aKxj5 •填充系数:65%
{?;qy\m]o •菱形网格的角度:30°
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0ijYE Vx}e,(i 总结——元件 naro y|0!sNg
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e-Oz`qW~ NEUr w/ 结果:系统中的光线
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m-6&-G# **\?-*c=U 结果:
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,(RpBTV (q0vql 结果:场追迹 Rt5,/Q0 o!ZG@k?#
L PS,\+ *;(^)Sj4Q VirtualLab Fusion技术 J)^F 2FW"uYA;6