摘要 yTzY? 8:Z@ lp^ 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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JoZqLy!@ 3$GY,B 建模任务:专利WO2018/178626 Yh}zt
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`4q5CJ2 _<Hb(z 任务描述 nAQyxP% v p"%IW
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;X?Ah 光波导元件 L9E;Uii0 0_YxZS\ 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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FY1},sq w8eG; 光波导结构 l.__10{ h
Jfa_ 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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A)b)ff , ]_^"|RJ 光栅#1:一维倾斜周期光栅
zjluX\ .b=M5JsyV 几何布局展示了2个光栅:
tc+GR?-7W ga4/,
(z8]FT •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
-/(DPx •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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Y9IJ t9Enk!@ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 %NF<bEV ua]\xBWx 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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W~XV v`[Tl 可用
参数:
=:xV(GK} •周期:400纳米
2*~JMbm •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
R-r+=x& •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
%Y)PH-z •倾斜角度:40º
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?$"x^=te7 Hrd5p+j 总结—元件 H(5S Kv5 ]p4`7@@)* 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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?6gDbE% A%NK0j$;} 可用参数:
EmtDrx4!(f •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
"?2 •调制深度:100nm
p6&LZ=tL3 •填充系数:65%
o1 hdO •菱形网格的角度:30°
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E)&NP}k-P Pi&fwGL 总结——元件 5t"bCzp B#qL$M,|
"k\Ff50 PTuCN
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6]Hm 6i9Q,4~ 结果:系统中的光线 wf~5lpI[ 2 Ft0C2
Hm+6QgCs eeI9[lTw 结果:
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E>l#0Zw ~_dBND? 结果:场追迹 Q>SPV8s *#prSS
Q8}TNJsU SxLHFN] VirtualLab Fusion技术 M\Uc;:) H }2iKi(io*