摘要 dTS7l02 &@nI(PXv 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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PC=b.H8P+W KN_3]-+B 建模任务:专利WO2018/178626 {ge^&l uBH4E;[f
05$CIS>! X`#vH8 任务描述
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CKy' 8I9 HZ )z^K?1 光波导元件 XeJn,= 3Vs8"BFjz 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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UM3}7| 'HzF/RKh 光波导结构 Wv8?G~> _?CyKk\I 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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2.qEy6 *3d+ !#;rG 光栅#1:一维倾斜周期光栅 O,x[6P54P yX0nyhq 几何布局展示了2个光栅:
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gE\&[;)DB •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
+0_e a~{ •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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@>cz$##` gF#HNv 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 %68'+qz C.].HQ 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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w;W# 'pE kOdXbw9v 可用
参数:
1-0tG+ •周期:400纳米
!K*(# [ •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
hK+6S3-Ez •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
q=(%
]BK •倾斜角度:40º
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FkE)~g B>.x@(}V~ 总结—元件 0v+-yEkw FJ,"a%m/Q 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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mC2K &'[ xP4}LL9) 可用参数:
;NU-\<Q{ •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
|;:g7eb •调制深度:100nm
d|?Xo\+ •填充系数:65%
I+=+ ,iXhB •菱形网格的角度:30°
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E75/EQ5p]p "!+gA& 总结——元件 L4,b ThSG is
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B*Q 9g r jr,N+K(@T 结果:系统中的光线 rk6K0TQ8 <d @9[]
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GLgf%A`5/_ \yl|*h3 结果:场追迹 8N%nG(
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