摘要 <m )@~s?D i<@|+*>M 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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Ex<-<tY qbT].,?!U 建模任务:专利WO2018/178626 "`
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4lPZ M)|}Vn;! 任务描述 ap=M$9L' szKs9er&
yWX:`*GV {v2Q7ZO- 光波导元件 UQhfR}( 85H8`YwPh 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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LrK6*y,z -4V1s;QUZ 光波导结构 *.Kc-f4mP -M(:z 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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.Mm8\]. 光栅#1:一维倾斜周期光栅 Uh&MoIBs# 0iHK1Pt} 几何布局展示了2个光栅:
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VxsW3*` •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
0p~:fm •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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T}fo:aB} LM<OYRB( 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 .|_+>){$w 9C`Fd S 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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FK+jfr [ O </< 可用
参数:
scrNnO[3j •周期:400纳米
V!~uGf •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
J *^|ojX •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
{{giSW' •倾斜角度:40º
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("IRv>} 0 L5PN]<~T 总结—元件 DJ=miJI' pn'*w1i 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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%tmK6cY4Y PcJ,Y\"[ 可用参数:
C8aYg •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
8m-ryr) •调制深度:100nm
m"jqHGFV •填充系数:65%
@hg1&pfxZ< •菱形网格的角度:30°
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+D$\^ <# {TlS)i` 总结——元件 $yhQ)@#1 a i}8+L8-
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8n1Sy7K!; HR)joD*q;[ 结果:系统中的光线 #*?5 `2Ff2D^ ?
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(x#4BI}L9) Q%q_
/GfC/)1_ *H:;pIWP 结果:场追迹 0xZq?9a kS3wa3bT
QT^W00h W=]QTx,J VirtualLab Fusion技术 e9"<.:& ;l+3l
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