1. 建模任务
6SW:'u|90 1.1
模拟条件
H|==i2V{ 模拟区域:0~10
(~,Q-w" 边界条件:Periodic
mbSJ}3c" 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
CQ6Z[hLWF 单位长度:0.5
Bglh}_X q48V|6X'q
A .*}< 1.2堆栈
结构 ;%hlh)k$ :!J!l u 2. 建模过程
e>y"V;Mj 2.1设置模拟条件
7J7uHl`yq` >=[w{Vn'Mf
h5.u W8 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 tJ[Hcx*N V 1;n5YL .u)Po;e` 2.3创建掩膜并生成多畴结构
.Mdxbs6.C ]hN%~
~$> 3. 结果分析
Yc+/="&z 3.1 指向矢分布和透过率
i{!i%`" w~X1Il7A 8xZN4ck_@ 3.2所有畴的V-T曲线
ci6j"nKci "{AS5jw @tRq(*(/: 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
f4CwyL6ur VO/"
ot