1. 建模任务
1t~G|zhX 1.1
模拟条件
yWc$>ne[L 模拟区域:0~10
/U*C\ xMm 边界条件:Periodic
Tk[ $5u*, 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
oSKXt}sh 单位长度:0.5
KK4`l}Fk:n ($MlX BI oCv.Ln1;Z
1.2堆栈
结构 R%WCH?B<} 3pROf#M 2. 建模过程
a5^]20Fa 2.1设置模拟条件
~vhE|f `$IK`O Pj^{|U2 1
2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 s\(k<Ks +) om^e@. m9WDT 2.3创建掩膜并生成多畴结构
!-x$L>1$ RLXL& 3. 结果分析
4Z=_,#h4. 3.1 指向矢分布和透过率
tY<4%~%X >>)b'c NNR`!Pty 3.2所有畴的V-T曲线
.VJMz4$]O 8'[7
)I= {]!mrAjD 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
L#{S!P," <al(7