1. 建模任务
8.*\+nH 1.1
模拟条件
f0/jwfL 模拟区域:0~10
7bA4P* 边界条件:Periodic
)w
Z49>Y 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
M4zX*&w.T 单位长度:0.5
N8,EI^W8Z nu;}S!J [B}1z
1.2堆栈
结构 ;%BhhmR)[ -Pqi1pj] 2. 建模过程
hZp=BM"bJ 2.1设置模拟条件
<^CYxy mY$nI -P di8W2cwz
2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 fn1 ?Qp| L{cK^ , 8W19#?7>B 2.3创建掩膜并生成多畴结构
!T<z'zZU +L^A:}L( 3. 结果分析
pi^^L@@d 3.1 指向矢分布和透过率
R2Twm!1 g,00'z_D >&$ $(Bp 3.2所有畴的V-T曲线
Ul'~opf S1D9AcK di-O*ug 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
4(` 2# w^ixMn~nLF