1. 建模任务
,LC(Ax'.F 1.1
模拟条件
VGc.yM)&
j 模拟区域:0~10
\#IKirf? 边界条件:Periodic
K=r~+4F 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
qJ .XI 单位长度:0.5
qz.l l%p,m[
suYbD!`( 1.2堆栈
结构 g9=_^^Tg .*X=["
F 2. 建模过程
IkG;j+= 2.1设置模拟条件
u \<APn &C)97E
"rfBYl` 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 uvw1 _j? 4eF{Y^ x 0#u2j?zj 2.3创建掩膜并生成多畴结构
e {3%- +n$ruoRJh 3. 结果分析
hc|#JS2H@y 3.1 指向矢分布和透过率
YLS*uXB&. M?o_J4 U9*< dR 3.2所有畴的V-T曲线
!6z{~Z: S]Di1E^r;_ 7#Uzz"^ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
F/[m.!Eo J1Az+m