1. 建模任务
E.4`aJ@>d 1.1
模拟条件
a4O!q;tu7 模拟区域:0~10
9kQ~)4# 边界条件:Periodic
{BDp`uZ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
{ ~FYiX 单位长度:0.5
r4D6g>)h1q @va)j bsR&%C
1.2堆栈
结构 Ga"$_DyM r68'DJ&m3 2. 建模过程
UACWs3`s+ 2.1设置模拟条件
p 8Ts5n J*A<F'^F1 @ 4j#X
2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 g_5:o
3s XM>ByfD{ X#Ajt/XQ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
'$UlJDZ _Z@- q 3. 结果分析
/@Y/(+DE 3.1 指向矢分布和透过率
] +LleS5 a&M{y (KK9/k 3.2所有畴的V-T曲线
%7z "#qyX[\ Tr-gdX ; 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
XW%!#S&;X K.dgQ-vn