1. 建模任务
o H]FT{ 1.1
模拟条件
Bs<LJzS{V 模拟区域:0~10
#3-hE 边界条件:Periodic
q94*2@KV 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
-n6T^vf 单位长度:0.5
I!~3xZ B_0]$D0
^
'>% c@C[ 1.2堆栈
结构 )GJlQ1x XKbTjR 2. 建模过程
m8&XW2S 2.1设置模拟条件
TA+/35^? >V@,K z1
.Mzrj{^Y 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 %?z;'Y7D L%f$ & ''CowI 2.3创建掩膜并生成多畴结构
`Ro>?H 1i$OcN?x% 3. 结果分析
|bjLmGb 3.1 指向矢分布和透过率
w%f51Ex oX[I4i%G #M8>)o c 3.2所有畴的V-T曲线
13I~
`wNJ*` Y\{lQMCy 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
ZHc;8|} ,+RoJwi m