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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-05-14
    摘要 =bg&CZV T  
    c@#zjJhW]  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 v4##(~Tu  
    nK'8Mo  
    p'!,F; xX  
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    建模任务 "/Q(UV<d  
    V >uW|6  
    4-rI4A<  
    概述 jLS]^|  
    :h^UC~[h 3  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 O8N0]Mz  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 la{uJ9Iw@}  
    -x\l<\*  
    _7"W\gn:9  
    RkP|_Bf8)  
    光线追迹仿真 d#:J\2V"R  
    p}|wO&4h  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 4x?u5L 9o  
    •单击go! UkbQ'P+oS  
    •获得了3D光线追迹结果。 H1qw1[%0y  
    `[:1!I.}-  
    JU \J  
    ZV4' |q  
    光线追迹仿真 ',s7h"  
    :9q^  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 5N+(Gv[`"  
    •单击go! dB)hW'J?  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ]%8;c  
    >P"/ nS"nn  
    +Qb/:xQu  
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    场追迹仿真 f> [;|r@K  
    &0Zk3D4  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 xQ 3u  
    •单击go! mf[79:90^  
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    kGiw?~t=%  
    3CuoB b8  
    场追迹仿真(相机探测器) }gRLW2&mR>  
    \1'R}B@;  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 V*uu:  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 g@f/OsR76  
    [m[~A|S  
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    Riuv@i^6K  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ,5uDEXpt{  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 FGhrf  
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    B_jI!i{N%o  
    f|1FqL+T]  
    场追迹仿真(电磁场探测器) F ) ~pw  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 r9*H-V$  
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