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摘要 A9:dHOmT^U |ORro
r} 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 xzI?'?duC ,)u7P Ms
.YYLMI U&PwEh4uG 建模任务 948 lL& cq?&edjP xD|/98 概述 b@p3iq: szZ8-Y •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ]&oQ6 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Zo12F**{ O /S: S
rhr(uCp/ QO fqW@g 光线追迹仿真 K4.GAGd <E&[sQ|3 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Gdi8Al]\Nl •单击go! >U%:Nfo3 •获得了3D光线追迹结果。 D
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ue/GB+U C=y[WsT 光线追迹仿真 KeIk9T13O JiXkW% •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 VK~ OL •单击go! ?J1x'/G •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 m0$4 N.l\2S}
qRX:eo Wwf],Ya 场追迹仿真 bAd$
>DI[ VQMPs{tm •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 qad`muAd •单击go! ophQdJM HHZGu8tzt #&oL iz=hZ p1mY@[A 场追迹仿真(相机探测器) !.^%*6f N8-!}\, •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 _$f XK •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 kv)IG$S0 z4UJo!{S
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Xv 场追迹仿真(电磁场探测器) :VB{@ED •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ryKc7< ~Wox"h}( REaU=-m- ^Hplrwj} 场追迹仿真(电磁场探测器) +)cjW"9 chQCl3&e^ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "T?hIX/p_ Vw P+tM
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