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摘要 V`8\)FFG Yd(<;JKF[ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 -ykD/ \&l@rMD3s
^zW=s$\Fo #-o 'g! 建模任务 ~9PZ/(
' u@;e`-@ I_ AFHrj 概述 91-[[< 8Wo!NG:V5 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 dvM%" k •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 K
$WMrp G^';9 UK
*I[tIO\ <'QI_mP* 光线追迹仿真 ROXa/ ]V)*WP#a •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ^wD`sj<Qg •单击go! Omi/sKFMi •获得了3D光线追迹结果。 0gGr/78
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CvR-lKV< 光线追迹仿真 H@u5& ,"F0#5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ~N2=44e •单击go! _u'y7- •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 DN iH" 0% <k0/O
3/PvH E{R zkiwFEHA= 场追迹仿真 Abi(1nXdQ >_\[C?8 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 "LSzF_mK •单击go! 1{wbC) @qYT/V*/
M%Ksyr9 ,p#r; O<O 场追迹仿真(相机探测器) *Hi}FI !.-u'6e
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 |fIyq}{7 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 c-v-UO% rLE+t(x(0
GwfC l{l MTN*{ug2: 场追迹仿真(电磁场探测器) rL&Mq}7QK •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 3m9b ^}{x).
oam;hmw >x3lA0m 场追迹仿真(电磁场探测器) $PI9vyS 1D38T •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [qC0YM U$<"
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