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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-05-14
    摘要 SSPHhAeH8  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 t/cY=Wp  
    U&Wt%U{  
    lwrC pD .  
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    建模任务 <J`0mVOX  
    {zn!vJX  
    [3(7  4  
    概述 d Vj_8>  
    }q $5ig  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 AyNI$Q6Z  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 4Uphfzv3D  
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    !ePr5On  
    qv]}$WU  
    光线追迹仿真 9;r)#3Q[^  
    ~R22?g.  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 vhpNpgz  
    •单击go! ;\]b T;#  
    •获得了3D光线追迹结果。 %>~sJ0  
    |C!oxhu<  
    EB2w0a5  
    WU quN  
    光线追迹仿真 d/[; `ZD+  
    (Tn- >).AO  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 E%r k[wI  
    •单击go! M}yDXJx  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 \P.I)n`8 y  
    sE:M@`2L  
    9QDFEYG  
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    场追迹仿真 ;_rF;9z9  
    0`X]o'RxS  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 [H6hyG~  
    •单击go! v6>_ j L  
    syaPpM Q-  
    H."EUcE{  
    j@SQ~AS  
    场追迹仿真(相机探测器) +y&Tf#.V/A  
    >8k _n  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Tk5W'p|6f  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 l)Crc-:}4j  
    V:VO[e<e  
    #vti+A~n,4  
    +VO-oFE|  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ,.OERw  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 :I+Gu*0WD  
    I@yCTl uV$  
    Qa-K$dm%  
    XCU7x i$d  
    场追迹仿真(电磁场探测器) _$ +^q-  
    M<kj_.  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 7Rd'm'l)  
    (O.d>  
    6)Y.7XR  
     
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