Ansys Zemax杂散光、匀光专题课程邀请函(2024年5月18-19日)
开课时间:2024年5月18-19日 开课地点:武汉 主办单位:光研科技南京有限公司 课程形式:现场小班互动式,教材与PPT同步,安装新正版软件,上机操作练习 课程说明: 1.名额上限10人,人满截止报名 2.课堂上提供新版的Ansys Zemax 正版软件,统一发送配套的培训教材 3.学员自带笔记本电脑,课程结束后颁发培训证书 Ansys Zemax杂散光、匀光专题课程表 ☆本课程为杂散光、匀光专题学习课程,针对工业及特殊照明产品的设计优化而设定的,涵盖了室内外照明灯具、工业照明等方面的建模设计和分析优化。主要内容包括: 1、光源的精确建立、复杂物体的各种构建方式、探测器的建立和分析。 2、马克斯托夫望远镜的杂散光分析案例,分析杂散光产生的原因及消除的办法等。 3、成像镜头鬼影分析等高级光路分析,通过光路分析找出鬼像产生的原因。 4、LCD背光照明和匀光分析,透镜阵列匀光实例,不同方式实现照明匀光。 5、投影系统的整机设计等内容,把成像系统和照明系统整合在一起进行整体仿真分析。 6、非序列优化方法及技巧,包含匀光优化,准直优化等。 费用及优惠: 4500元/人 ☆ 同时报6个课程享8折加送一个课程,同时报10个课程享8折加送两个课程 |





